特許
J-GLOBAL ID：201703017740732631
水処理方法および水処理装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
曾我 道治
, 梶並 順
, 大宅 一宏
, 上田 俊一
, 吉田 潤一郎
, 飯野 智史
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-539244
特許番号：特許第6103794号
出願日： 2016年03月01日
要約：
【要約】 分離膜の一次側から二次側へ向けて被処理水をろ過するろ過工程と、分離膜を二次側から一次側へ向けて洗浄する逆洗工程とを含むサイクルを繰り返す水処理方法において、逆洗工程に用いるオゾンを分離膜へ注入するステップと、繰り返したサイクルのうち、先のサイクルを第1サイクル、第1サイクルに続いて実施される後のサイクルを第2サイクルとしたとき、第2サイクルの際に注入するオゾンの注入量を、第1サイクルの際に注入したオゾンの注入量以下とするステップとを有する
請求項（抜粋）：
【請求項1】 分離膜の一次側から二次側へ向けて被処理水をろ過するろ過工程と、前記分離膜を前記二次側から前記一次側へ向けて洗浄する逆洗工程とを含むサイクルを繰り返す水処理方法において、
前記逆洗工程に用いるオゾンを前記分離膜へ注入するステップと、
繰り返した前記サイクルのうち、先のサイクルを第1サイクル、前記第1サイクルに続いて実施される後のサイクルを第2サイクルとしたとき、前記第2サイクルの際に注入する前記オゾンの注入量を、前記第1サイクルの際に注入した前記オゾンの注入量より少なくするステップと
を有し、
前記分離膜は疎水性であり、
前記処理水は、前記分離膜との親和性が高い汚濁物質を含み、
前記分離膜の親水化を促す
水処理方法。
IPC (2件)：
C02F 1/44 ( 200 6.01)
, B01D 65/06 ( 200 6.01)
C02F 1/44 D
, B01D 65/06
, C02F 1/44 A
出願人引用 (7件)
全件表示
審査官引用 (7件)
全件表示
前のページに戻る
