特許

J-GLOBAL ID：201703017805770773

無電解めっきの前処理方法

発明者： 玉井 聡行 ,  渡辺 充 ,  姜 俊行 ,  喜多 あずさ
出願人/特許権者： 奥野製薬工業株式会社 ,  地方独立行政法人 大阪市立工業研究所
代理人 (1件)： 特許業務法人三枝国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-195150
公開番号（公開出願番号）：特開2017-064656
出願日： 2015年09月30日
公開日（公表日）： 2017年04月06日
要約：

【課題】無電解めっき皮膜との密着性に乏しい基材である高分子基材上に、密着性に優れた無電解めっき皮膜を形成することが可能な無電解めっきの前処理方法、及び当該前処理方法を含む無電解めっき方法を提供する。【解決手段】(1)高分子基材に対して、プラズマ処理又はUV処理を施す工程、及び(2)前記基材を、カチオン性ポリマーを含む溶液に浸漬する工程を含む、無電解めっきの前処理方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(1)高分子基材に対して、プラズマ処理又はUV処理を施す工程、及び (2)前記高分子基材を、カチオン性ポリマーを含む溶液に浸漬する工程 を含む、無電解めっきの前処理方法。

IPC (6件)：

B05D 1/18 ,  C23C 18/20 ,  C23C 18/30 ,  B05D 7/02 ,  B05D 3/06 ,  B05D 3/04

FI (7件)：

B05D1/18 ,  C23C18/20 A ,  C23C18/30 ,  C23C18/20 ,  B05D7/02 ,  B05D3/06 102Z ,  B05D3/04 C

Fターム (22件)：

4D075AB01 ,  4D075AE19 ,  4D075BB46X ,  4D075BB49X ,  4D075BB87Z ,  4D075CA13 ,  4D075CA47 ,  4D075CA48 ,  4D075DA03 ,  4D075DB31 ,  4D075DB48 ,  4D075EA07 ,  4D075EB07 ,  4D075EB11 ,  4D075EB14 ,  4D075EB31 ,  4K022AA16 ,  4K022BA08 ,  4K022CA06 ,  4K022CA09 ,  4K022CA12 ,  4K022DA01

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 金属膜を有する部材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-017868   出願人：大日本印刷株式会社

引用文献：

審査官引用 (2件)

• その場合成によるハイブリッド薄膜の作製とその高分子表面の無電解めっきへの応用
• プラズマ処理とLbL積層を経るPENフィルムの表面改質