共役ジオレフィン製造用触媒の再生方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-031517
公開番号（公開出願番号）：特開2017-148699
出願日： 2016年02月22日
公開日（公表日）： 2017年08月31日
要約：

【課題】炭素原子数4以上のモノオレフィンを触媒の存在下で気相接触酸化的脱水素反応させて共役ジオレフィンを製造するための再生方法であって、触媒の破損を抑制し、長期安定性に優れた共役ジオレフィンの製造方法を提供すること。【解決手段】炭素原子数4以上のモノオレフィンを触媒の存在下で気相接触酸化的脱水素反応させて共役ジオレフィンを製造するための再生方法であって、反応に使用する前の触媒における平均細孔直径R1と再生後の触媒における平均細孔直径R2との比率R2/R1が0.59以上となるように再生を実施することを特徴とする再生方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

炭素原子数4以上のモノオレフィンを触媒の存在下で気相接触酸化的脱水素反応させて共役ジオレフィンを製造するための再生方法であって、反応に使用する前の触媒における平均細孔直径R1と再生後の触媒における平均細孔直径R2との比率R2/R1が0.59以上となるように再生を実施することを特徴とする再生方法。

IPC (5件)：

B01J 38/16 , B01J 23/887 , B01J 23/94 , C07C 5/333 , C07C 11/167

FI (5件)：

B01J38/16 , B01J23/887 Z , B01J23/94 Z , C07C5/333 , C07C11/167

Fターム (93件)：

4G169AA03 , 4G169AA10 , 4G169BA01A , 4G169BA02A , 4G169BA03A , 4G169BA04A , 4G169BA05A , 4G169BB02C , 4G169BB04A , 4G169BB04C , 4G169BB05C , 4G169BB06A , 4G169BB06B , 4G169BB07C , 4G169BB08C , 4G169BB10C , 4G169BB12C , 4G169BB15A , 4G169BB16C , 4G169BB20C , 4G169BC02A , 4G169BC03A , 4G169BC04A , 4G169BC05A , 4G169BC06A , 4G169BC06B , 4G169BC09A , 4G169BC10A , 4G169BC12A , 4G169BC13A , 4G169BC19A , 4G169BC21A , 4G169BC25A , 4G169BC25B , 4G169BC26A , 4G169BC35A , 4G169BC42A , 4G169BC43A , 4G169BC44A , 4G169BC59A , 4G169BC59B , 4G169BC60A , 4G169BC66A , 4G169BC66B , 4G169BC67A , 4G169BC67B , 4G169BC68A , 4G169BC68B , 4G169BD01C , 4G169BD02C , 4G169BD04C , 4G169BD05A , 4G169BD12C , 4G169BE08C , 4G169CB07 , 4G169CB20 , 4G169CB63 , 4G169DA06 , 4G169EA02X , 4G169EA04Y , 4G169EB18X , 4G169EC13X , 4G169EC14X , 4G169EC14Y , 4G169FB05 , 4G169FB06 , 4G169FB08 , 4G169FB09 , 4G169FB10 , 4G169FB14 , 4G169FB15 , 4G169FB30 , 4G169FB57 , 4G169FB62 , 4G169FB66 , 4G169FB67 , 4G169FB70 , 4G169FC08 , 4G169GA03 , 4H006AA02 , 4H006AC12 , 4H006BA04 , 4H006BA13 , 4H006BA14 , 4H006BA19 , 4H006BA20 , 4H006BA21 , 4H006BA30 , 4H006BA55 , 4H006BA81 , 4H006BA84 , 4H039CA29 , 4H039CC10

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