特許

J-GLOBAL ID：201703018075740926

マスク洗浄方法およびマスク洗浄装置

発明者： 平坂 直人
出願人/特許権者： 株式会社ジャパンディスプレイ
代理人 (1件)： 特許業務法人高橋・林アンドパートナーズ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-057905
公開番号（公開出願番号）：特開2017-170313
出願日： 2016年03月23日
公開日（公表日）： 2017年09月28日
要約：

【課題】蒸着に使用するマスク、あるいは基板などを効率よく洗浄するための洗浄方法、洗浄装置、および洗浄システムを提供することを課題の一つとする。【解決手段】長辺と短辺を有する洗浄ヘッドの下にマスクを設け、洗浄ヘッドからマスク上に溶媒を射出することを含み、溶媒が射出される間、マスクと前記洗浄ヘッドの少なくとも一方を、他方に対して相対的に動かす、マスク洗浄方法が提供される。また、マスクを保持する保持機構と、保持機構上に設けられ、溶媒を保持機構上へ射出できるように構成される洗浄ヘッドと、保持機構と洗浄ヘッドの少なくとも一方を移動させる移動機構を有するマスク洗浄装置が提供される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

長辺と短辺を有する洗浄ヘッドの下にマスクを設け、 前記洗浄ヘッドから前記マスク上に溶媒を射出することを含み、 前記溶媒が射出される間、前記マスクと前記洗浄ヘッドの少なくとも一方を、他方に対して相対的に移動させるマスク洗浄方法。

IPC (3件)：

B08B 3/02 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50

FI (4件)：

B08B3/02 D ,  B08B3/02 B ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A

Fターム (13件)：

3B201AA01 ,  3B201AB03 ,  3B201AB37 ,  3B201BB33 ,  3B201BB44 ,  3B201BB83 ,  3B201BB95 ,  3B201CD22 ,  3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC45 ,  3K107GG28 ,  3K107GG33