特許
J-GLOBAL ID：201703018440570318
複数の排気ポートを含む基板処理装置及びその方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
特許業務法人小倉特許事務所
, 小倉 正明
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-542245
特許番号：特許第6060172号
出願日： 2012年11月16日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板に対する工程が行われる基板処理装置において,
上部が開放され,一側に前記基板が出入する通路が形成される下部チャンバと,
前記下部チャンバの開放された上部を閉鎖し,前記工程が行われる工程空間を提供する外部反応チューブと,
一つ以上の前記基板が上下方向に積載され,前記基板が積載される積載位置及び前記基板に対する前記工程が行われる工程位置に転換可能な基板ホルダと,
前記外部反応チューブの内壁に沿って配置されて前記反応ガスを吐出する供給口を有する一つ以上の供給ノズルと,
前記外部反応チューブの内壁に沿って配置されて前記工程空間内の未反応ガス及び反応副産物を吸入する排気口を有する一つ以上の排気ノズルと,
前記排気ノズルに連結され,前記排気口を介して吸入した前記未反応ガス及び前記反応副産物を排出する第2排気ラインと,を含み,
前記下部チャンバは,前記排気ノズルと前記第2排気ラインを連結する排気ポート及び前記下部チャンバの内部に形成された積載空間を前記第2排気ラインに連結する補助排気ポートを有し,
前記基板処理装置は,
前記補助排気ポートに連結された補助排気ライン及び前記補助排気ラインを開閉する第1補助バルブと,
前記排気ポートと前記第2排気ラインを連結する第1排気ラインと,
前記第1排気ラインの上に設置されて前記第1排気ラインの内部をポンプするポンプと,
前記第1排気ラインの上に設置されて前記第1排気ラインを開閉する開閉バルブと,
前記第1補助バルブの後方に設置されて前記補助排気ラインを開閉する第2補助バルブと,
前記補助排気ラインと前記第1排気ラインを連結し,一端が前記第1補助バルブと第2補助バルブとの間に連結されて他端が前記ポンプの前方に連結される連結ラインと,
前記連結ラインの上に設置されて前記連結ラインを開閉する連結バルブと,を更に含み,
工程を進行する前に前記第1補助バルブ及び前記連結バルブ,そして前記開閉バルブは開放状態であり,前記第2補助バルブは閉鎖状態であることを特徴とする
基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/205 ( 200 6.01)
, C23C 16/44 ( 200 6.01)
H01L 21/205
, C23C 16/44 E
