特許
J-GLOBAL ID：201703018898072732
コバルト触媒を用いる脱水素シリル化および架橋
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (3件)：
古谷 聡
, 溝部 孝彦
, 西山 清春
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-278847
公開番号（公開出願番号）：特開2014-037398
特許番号：特許第6125222号
出願日： 2012年12月21日
公開日（公表日）： 2014年02月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 脱水素シリル化産物を製造するためのプロセスであって、(a)少なくとも一つの不飽和官能基を含有する不飽和化合物、(b)少なくとも一つのシリルヒドリド官能基を含有するシリルヒドリド、および(c)触媒を含有する混合物を、任意選択で溶媒の存在下で脱水素シリル化産物を製造するために反応させるステップを含有し、ここで触媒は、式(I):
の錯体もしくはその付加物であり、
式中、
R1、R2、R3、R4およびR5の各々は独立して、水素、C1〜C18のアルキル、C1〜C18の置換アルキル、アリール、置換アリール、もしくはフルオロ、クロロ、ブロモ、イオドおよび-OR30〔R30はヒドロカルビルもしくは置換ヒドロカルビル〕のエーテルから選ばれる不活性官能基であり、ここで水素以外のR1〜R5は、任意選択で少なくとも一つのヘテロ原子を含有し;
R6およびR7の各々は独立して、C1〜C18のアルキル、C1〜C18の置換アルキル、アリールもしくは置換アリールであり、ここでR6およびR7は任意選択で少なくとも一つのヘテロ原子を含有し;
任意選択で、R1、R2、R3、R4、R5、R6およびR7の互いに隣接する任意の二つが一緒になって、置換のもしくは不置換の、飽和のもしくは不飽和の環を形成し、
Lはヒドロキシルであるかまたは、C1〜C18のアルキル、C1〜C18の置換アルキル、アリールもしくは置換アリール基、または成分(a)〔Lは任意選択で少なくとも一つのヘテロ原子を含有する〕である、
プロセス。
IPC (5件)：
C07F 7/08 ( 200 6.01)
, C07F 7/18 ( 200 6.01)
, C07D 213/53 ( 200 6.01)
, C07F 15/06 ( 200 6.01)
, C07B 61/00 ( 200 6.01)
C07F 7/08 X
, C07F 7/08 Y
, C07F 7/18 X
, C07D 213/53
, C07F 15/06 CSP
, C07B 61/00 300
