特許

J-GLOBAL ID：201703018931547563

蒸着マスクの製造方法及び有機ELディスプレイの製造方法

発明者： 大河原 健
出願人/特許権者： 株式会社ジャパンディスプレイ
代理人 (1件)： 特許業務法人はるか国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-032014
公開番号（公開出願番号）：特開2017-150017
出願日： 2016年02月23日
公開日（公表日）： 2017年08月31日
要約：

【課題】蒸着マスクに含まれるフィルムの変形を抑制することが可能な、蒸着マスクの製造方法及び有機ELディスプレイの製造方法を提供する。【解決手段】補強バー21と、補強バーよりも面積が広いフィルム30と、を備える蒸着マスク準完成体11を用意し、フィルムの補強バーと平面的に重ならない領域に開口パターン3aを形成し、フィルムの補強バーとは反対の表面の補強バーと平面的に重なる領域に少なくとも1つの凸部37を形成する蒸着マスク1の製造方法。好ましくは、開口パターンの形成と凸部の形成はレーザー光の照射によって行われ、凸部の形成時のレーザー光の出力は開口パターンの形成時のレーザー光の出力よりも低い蒸着マスクの製造方法【選択図】図4

請求項（抜粋）：

補強バーと、前記補強バーよりも面積が広いフィルムと、を備える蒸着マスク準完成体を用意し、 前記フィルムの前記補強バーと平面的に重ならない領域に開口パターンを形成し、 前記フィルムの前記補強バーとは反対の表面の前記補強バーと平面的に重なる領域に少なくとも1つの凸部を形成する、 蒸着マスクの製造方法。

IPC (4件)：

C23C 14/04 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/10 ,  C23C 14/12

FI (4件)：

C23C14/04 A ,  H05B33/14 A ,  H05B33/10 ,  C23C14/12

Fターム (15件)：

3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC45 ,  3K107FF06 ,  3K107FF15 ,  3K107GG04 ,  3K107GG33 ,  4K029AA09 ,  4K029AA11 ,  4K029AA24 ,  4K029BA62 ,  4K029BB03 ,  4K029CA01 ,  4K029HA02 ,  4K029HA03