特許
J-GLOBAL ID:201703018968117291

排ガス処理方法および排ガス処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 野河 信太郎 ,  甲斐 伸二 ,  金子 裕輔 ,  稲本 潔
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-145624
公開番号(公開出願番号):特開2015-016434
特許番号:特許第6178141号
出願日: 2013年07月11日
公開日(公表日): 2015年01月29日
請求項(抜粋):
【請求項1】 NOxを含む150°C以上の排ガス中に水溶液である第1液体とオゾンとを供給し、オゾンガスを含む排ガス中に第1液体の水滴が浮遊する第1ミストを発生させる工程を含み、 第1ミストは、第1液体を排ガス中に噴霧することにより形成されたミスト中の部分低温域にオゾンガスを直接供給することにより形成され、 前記部分低温域は、第1液体の水滴が蒸発することによる気化熱により部分的に排ガス温度が150°C未満に低下した領域であり、 第1液体は、還元剤水溶液または還元剤を溶質として含むアルカリ性水溶液である排ガス処理方法。
IPC (9件):
B01D 53/18 ( 200 6.01) ,  B01D 53/50 ( 200 6.01) ,  B01D 53/56 ( 200 6.01) ,  B01D 53/73 ( 200 6.01) ,  B01D 53/75 ( 200 6.01) ,  B01D 53/76 ( 200 6.01) ,  B01D 53/78 ( 200 6.01) ,  B01D 53/79 ( 200 6.01) ,  B01D 53/92 ( 200 6.01)
FI (14件):
B01D 53/18 150 ,  B01D 53/50 230 ,  B01D 53/56 230 ,  B01D 53/73 ,  B01D 53/75 ,  B01D 53/76 ,  B01D 53/78 ,  B01D 53/79 ,  B01D 53/92 215 ,  B01D 53/92 224 ,  B01D 53/92 310 ,  B01D 53/92 320 ,  B01D 53/92 331 ,  B01D 53/92 335
引用特許:
審査官引用 (10件)
  • 排ガス処理方法および装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平11-286354   出願人:三菱電機株式会社
  • 排気ガスの処理方法および処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2009-117734   出願人:公立大学法人大阪府立大学
  • 特開昭55-084522
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