特許

J-GLOBAL ID：201703018988687493

水処理方法および水処理装置

発明者： 今村 英二 ,  山内 登起子 ,  安永 望
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (6件)： 曾我 道治 ,  梶並 順 ,  大宅 一宏 ,  上田 俊一 ,  吉田 潤一郎 ,  飯野 智史
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2016056223
公開番号（公開出願番号）：WO2017-033478
出願日： 2016年03月01日
公開日（公表日）： 2017年03月02日
要約：

分離膜の一次側から二次側へ向けて被処理水をろ過するろ過工程と、分離膜を二次側から一次側へ向けて洗浄する逆洗工程とを含むサイクルを繰り返す水処理方法において、逆洗工程に用いるオゾンを分離膜へ注入するステップと、繰り返したサイクルのうち、先のサイクルを第1サイクル、第1サイクルに続いて実施される後のサイクルを第2サイクルとしたとき、第2サイクルの際に注入するオゾンの注入量を、第1サイクルの際に注入したオゾンの注入量以下とするステップとを有する

請求項（抜粋）：

分離膜の一次側から二次側へ向けて被処理水をろ過するろ過工程と、前記分離膜を前記二次側から前記一次側へ向けて洗浄する逆洗工程とを含むサイクルを繰り返す水処理方法において、 前記逆洗工程に用いるオゾンを前記分離膜へ注入するステップと、 繰り返した前記サイクルのうち、先のサイクルを第1サイクル、前記第1サイクルに続いて実施される後のサイクルを第2サイクルとしたとき、前記第2サイクルの際に注入する前記オゾンの注入量を、前記第1サイクルの際に注入した前記オゾンの注入量以下とするステップと を有する水処理方法。

IPC (2件)：

C02F 1/44 ,  B01D 65/06

FI (3件)：

C02F1/44 D ,  B01D65/06 ,  C02F1/44 A

Fターム (28件)：

4D006GA07 ,  4D006HA01 ,  4D006HA21 ,  4D006HA41 ,  4D006HA93 ,  4D006JA55Z ,  4D006KA44 ,  4D006KC03 ,  4D006KC16 ,  4D006KD21 ,  4D006KE06P ,  4D006KE12P ,  4D006KE13P ,  4D006KE24Q ,  4D006KE28Q ,  4D006KE30P ,  4D006MA01 ,  4D006MA02 ,  4D006MA03 ,  4D006MB10 ,  4D006MC22 ,  4D006MC28 ,  4D006MC29 ,  4D006MC30 ,  4D006PA01 ,  4D006PB08 ,  4D006PB24 ,  4D006PC62