特許

J-GLOBAL ID：201703019147261080

高アスペクト窒化ホウ素、方法、およびそれを含有する組成物

発明者： クー ハオ ,  ムルガイア アナンド ,  シャン ベイ ,  ラマン チャンドラシェカール ,  イ リン カン
出願人/特許権者： モーメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・インク
代理人 (3件)： 田中 順也 ,  水谷 馨也 ,  塚本 真由子
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-562469
公開番号（公開出願番号）：特表2017-510540
出願日： 2015年01月05日
公開日（公表日）： 2017年04月13日
要約：

熱伝導率、電気絶縁性、水分、蒸気およびガスに対するバリア、潤滑、摩擦調整、光学的特性、懸濁安定性等の改善された特性を提供する、高アスペクト窒化ホウ素粒子を含む多官能性組成物、ならびにそのような組成物を形成するためのシステムおよび方法。高窒化ホウ素粒子は、300超の平均アスペクト比を有する。多官能性組成物は、ポリマー材料、流体、金属、セラミック、ガラス、他の非BN充填剤および高アスペクト比窒化ホウ素を含んでよい。また、そのような窒化ホウ素粒子および組成物を作製するための方法も提供される。

請求項（抜粋）：

300超の平均アスペクト比を有する窒化ホウ素粒子を含む組成物。

IPC (6件)：

C01B 21/064 ,  C08K 3/38 ,  C08L 101/00 ,  C08K 9/04 ,  C08K 3/00 ,  C09C 3/08

FI (6件)：

C01B21/064 Z ,  C08K3/38 ,  C08L101/00 ,  C08K9/04 ,  C08K3/00 ,  C09C3/08

Fターム (39件)：

4J002AA001 ,  4J002AA011 ,  4J002AA021 ,  4J002AB012 ,  4J002DA017 ,  4J002DA027 ,  4J002DA077 ,  4J002DA097 ,  4J002DC007 ,  4J002DE077 ,  4J002DE097 ,  4J002DE107 ,  4J002DE137 ,  4J002DE147 ,  4J002DE237 ,  4J002DF017 ,  4J002DJ007 ,  4J002DJ017 ,  4J002DJ047 ,  4J002DJ057 ,  4J002DK006 ,  4J002DL007 ,  4J002FA037 ,  4J002FB086 ,  4J002FB096 ,  4J002FB266 ,  4J002FD012 ,  4J002FD016 ,  4J002FD017 ,  4J002FD206 ,  4J002GP00 ,  4J002GQ00 ,  4J037AA08 ,  4J037CB07 ,  4J037CB09 ,  4J037CB23 ,  4J037CB26 ,  4J037EE02 ,  4J037EE11