特許
J-GLOBAL ID：201703019411472931
光干渉断層計、光干渉断層計を用いた観察装置及び光干渉断層計を用いた観察方法
発明者：
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出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
加藤 直樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-105107
公開番号（公開出願番号）：特開2016-217959
出願日： 2015年05月25日
公開日（公表日）： 2016年12月22日
要約：
【課題】高精度且つ有益な情報を取得可能な光干渉断層計、光干渉断層計を用いた観察装置及び光干渉断層計を用いた観察方法を実現する。【解決手段】コヒーレント光を観察対象に於いて干渉させ、反射光を観測することにより観察対象の断層像を得る光干渉断層計に於いて、使用するコヒーレント光の帯域幅が150nm以上とした。具体的には、レーザー光源として多波長広帯域モードロックレーザーを用いる。また、使用するコヒーレント光は複数のピーク及び/又は帯域を有し、且つ該複数のピーク及び/又は帯域を用いて観察及び/又は物性の計測を行う。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
コヒーレント光を観察対象に於いて干渉させ、
反射光を観測することにより観察対象の断層像を得る光干渉断層計に於いて、
使用するコヒーレント光の帯域幅が150nm以上であることを特徴とする、
光干渉断層計。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N21/17 620
, G01N21/01 D
2G059BB12
, 2G059EE02
, 2G059EE09
, 2G059EE11
, 2G059FF01
, 2G059FF09
, 2G059GG01
, 2G059HH01
, 2G059HH02
, 2G059JJ17
, 2G059MM01
