特許

J-GLOBAL ID：201703019449217692

自動分析装置及びその洗浄方法

発明者： 野島 彰紘 ,  山崎 功夫 ,  森 高通 ,  野中 昂平
出願人/特許権者： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
代理人 (1件)： 青稜特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-027716
公開番号（公開出願番号）：特開2017-146182
出願日： 2016年02月17日
公開日（公表日）： 2017年08月24日
要約：

【課題】自動分析に用いるプローブの洗浄処理を適正に制御することができる自動分析装置及びその洗浄方法を提供する。【解決手段】試料分注機構11により分注された試料と、試薬分注機構7、8により分注された試薬とを混合して、その混合液を分析する自動分析装置100であって、前記試料分注機構11内又は前記試薬分注機構7、8内の圧力を検出する圧力センサ140と、前記試料分注機構11又は前記試薬分注機構7、8を洗浄する洗浄槽142と、前記洗浄槽142に収容される洗浄液の洗浄能力を向上させる洗浄加速機構145と、前記圧力センサ140により検出される圧力に基づき、前記洗浄加速機構145を管理するためのパラメータを算出する処理部と、を有する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

試料分注機構により分注された試料と、試薬分注機構により分注された試薬とを混合して、その混合液を分析する自動分析装置であって、 前記試料分注機構内又は前記試薬分注機構内の圧力を検出する圧力センサと、 前記試料分注機構又は前記試薬分注機構を洗浄する洗浄槽と、 前記洗浄槽に収容される洗浄液の洗浄能力を向上させる洗浄加速機構と、 前記圧力センサにより検出される圧力に基づき、前記洗浄加速機構を管理するためのパラメータを算出する処理部と、 を有することを特徴とする自動分析装置。

IPC (2件)：

G01N 35/10 ,  G01N 35/00

FI (2件)：

G01N35/10 F ,  G01N35/00 E

Fターム (5件)：

2G058BB02 ,  2G058FB05 ,  2G058FB15 ,  2G058FB19 ,  2G058GB10