光シャッタ基板、光シャッタ基板の製造方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-072392
公開番号（公開出願番号）：特開2017-181955
出願日： 2016年03月31日
公開日（公表日）： 2017年10月05日
要約：

【課題】光シャッタ機構の一部である導電膜とアクティブマトリクス層の金属膜との間の接触不良が起きにくい、光シャッタ基板を提案する。【手段】半導体膜並びに透光性金属膜および光反射性金属膜を含むアクティブマトリクス層と、アクティブマトリクス層の上層に配され、導電膜を含む光シャッタ機構とを備える光シャッタ基板であって、透光性金属膜(18)および導電膜(26)が接触する第1コンタクト領域(CR1)と、透光性金属膜(18)および光反射性金属膜(12)が接触する第2コンタクト領域(CR2)とが設けられている。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

半導体膜並びに透光性金属膜および光反射性金属膜を含むアクティブマトリクス層と、当該アクティブマトリクス層の上層に配され、導電膜を含む光シャッタ機構とを備える光シャッタ基板であって、前記透光性金属膜および前記導電膜が接触する第1コンタクト領域と、前記透光性金属膜および前記光反射性金属膜が接触する第2コンタクト領域とが設けられていることを特徴とする光シャッタ基板。

IPC (8件)：

G02B 26/02 , G09F 9/37 , B81B 3/00 , B81C 1/00 , H01L 27/08 , H01L 29/786 , H01L 21/823 , H01L 27/06

FI (7件)：

G02B26/02 B , G09F9/37 , B81B3/00 , B81C1/00 , H01L27/08 331E , H01L29/78 613Z , H01L27/06 102A

Fターム (64件)：

2H141MA04 , 2H141MA05 , 2H141MA07 , 2H141MB03 , 2H141MB04 , 2H141MB63 , 2H141MC06 , 2H141MD03 , 2H141MD05 , 2H141MD31 , 2H141ME25 , 2H141ME29 , 2H141MF25 , 2H141MG03 , 2H141MZ03 , 2H141MZ20 , 2H141MZ28 , 3C081AA18 , 3C081BA22 , 3C081BA27 , 3C081BA32 , 3C081BA33 , 3C081BA44 , 3C081BA46 , 3C081BA48 , 3C081BA53 , 3C081BA72 , 3C081CA03 , 3C081CA14 , 3C081CA23 , 3C081CA26 , 3C081DA06 , 3C081DA24 , 3C081DA26 , 3C081DA27 , 3C081EA08 , 3C081EA11 , 5C094AA42 , 5C094AA53 , 5C094BA65 , 5C094BA84 , 5C094CA19 , 5C094DA13 , 5C094DB04 , 5C094EA05 , 5C094EA06 , 5C094ED11 , 5C094FA01 , 5C094FA02 , 5C094FB12 , 5C094GB10 , 5F048AB10 , 5F048AC10 , 5F048BA14 , 5F048CB01 , 5F048CB03 , 5F110BB01 , 5F110BB11 , 5F110CC07 , 5F110DD02 , 5F110NN03 , 5F110NN22 , 5F110NN71 , 5F110QQ19

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