特許
J-GLOBAL ID:201703020211883951

溶銑の脱りん処理における固体酸素源の供給方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 安田 敏雄 ,  安田 幹雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-235739
公開番号(公開出願番号):特開2017-101294
出願日: 2015年12月02日
公開日(公表日): 2017年06月08日
要約:
【課題】 溶銑脱りん処理の際に、スラグ中の酸素ポテンシャルを高位に保ち、脱りん効率を向上させる。【解決手段】本発明の固体酸素源の供給方法は、溶銑Mが装入された転炉型の溶銑処理容器1内に、精錬用の上吹きランスとして第1ランス3と第2ランス4とを水平方向に距離を離して挿入し、第1ランス3からは気体酸素を供給し、第2ランス4からは搬送用ガスとともに固体酸素源を供給するものとし、第1ランス3と第2ランス4との水平方向距離をs(m)、溶銑処理容器1の炉口6の径をD(m)、第2ランス4の静止湯面からの吹込み高さをh2(m)、第2ランス4の開口径をd(m)、第2ランス4からの搬送用ガスの吹き込み流量をQ2(Nm3/s)としたとき、第1ランス3及び第2ランス4の配置が所定の関係を満たす。【選択図】図1
請求項(抜粋):
溶銑が装入された転炉型の溶銑処理容器内に、精錬用の上吹きランスとして第1ランスと第2ランスとを水平方向に距離を離して挿入し、 前記第1ランスからは気体酸素を供給し、前記第2ランスからは搬送用ガスとともに固体酸素源を供給するものとし、 前記第1ランスと第2ランスとの水平方向距離をs(m)、前記溶銑処理容器の炉口の径をD(m)、前記第2ランスの静止湯面からの吹込み高さをh2(m)、前記第2ランスの開口径をd(m)、前記第2ランスからの前記搬送用ガスの吹き込み流量をQ2(Nm3/s)としたとき、前記第1ランス及び第2ランスが式(1)及び式(2)を満たす ことを特徴とする固体酸素源の供給方法。
IPC (3件):
C21C 1/02 ,  C21C 5/30 ,  F27D 3/18
FI (3件):
C21C1/02 110 ,  C21C5/30 Z ,  F27D3/18
Fターム (25件):
4K014AA03 ,  4K014AB02 ,  4K014AB03 ,  4K014AB04 ,  4K014AC01 ,  4K014AC14 ,  4K014AC17 ,  4K014AD27 ,  4K055AA02 ,  4K055AA04 ,  4K055MA02 ,  4K055MA08 ,  4K055MA17 ,  4K070AB06 ,  4K070AC12 ,  4K070AC13 ,  4K070AC14 ,  4K070AC17 ,  4K070BA05 ,  4K070BB08 ,  4K070CF01 ,  4K070DA05 ,  4K070DA07 ,  4K070EA13 ,  4K070EA30
引用特許:
出願人引用 (2件)

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