特許

J-GLOBAL ID：201703021124684906

ウェハの洗浄方法

発明者： 奥村 雄三 ,  福井 由季 ,  高田 朋宏 ,  深澤 宏紀 ,  齋尾 崇 ,  公文 創一
出願人/特許権者： セントラル硝子株式会社
代理人 (1件)： 西 義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-053514
公開番号（公開出願番号）：特開2017-168710
出願日： 2016年03月17日
公開日（公表日）： 2017年09月21日
要約：

【課題】接液部材として塩化ビニル樹脂を含むウェハの洗浄装置を用いるウェハの洗浄において、長時間保管した撥水性保護膜形成用薬液を用いた場合であっても、上記塩化ビニル樹脂を劣化させることなく、ウェハ表面に安定した撥水性を付与することができるウェハの洗浄方法を提供する。【解決手段】シリル化剤を含む第1液と、三級アルコールを含む第2液とを混合して、撥水性保護膜形成用薬液を調製する調製工程、調製工程後に前記撥水性保護膜形成用薬液を凹凸パターンの少なくとも凹部に保持して、該凹部表面に撥水性保護膜を形成する撥水性保護膜形成工程、を有する。前記第1液中に含まれる非プロトン性溶媒及び前記第2液中の三級アルコールを含めた非水溶媒の総量に対する前記三級アルコールの量が80〜100質量%であり、前記第1液及び第2液の総量に対する前記シリル化剤の含有量が1〜20質量%とする。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

接液部材として塩化ビニル樹脂を含むウェハの洗浄装置で 表面に微細な凹凸パターンを有し該凹凸パターンの少なくとも一部がシリコン元素を含むウェハを洗浄する方法において、 下記一般式[1]で表されるシリル化剤を含む第1液と、三級アルコールを含む第2液とを混合して、撥水性保護膜形成用薬液を調製する、調製工程、 調製工程後に前記撥水性保護膜形成用薬液を前記凹凸パターンの少なくとも凹部に保持して、該凹部表面に撥水性保護膜を形成する、撥水性保護膜形成工程 を有し、 前記第1液中に含まれることのある非プロトン性の溶媒、及び、 前記第2液中の三級アルコールを含めた非水溶媒 の総量100質量%に対する前記三級アルコールの量が80〜100質量%であり、 前記第1液及び第2液の総量100質量%に対する前記シリル化剤の量(シリル化剤含有量)が1〜20質量%である、 ウェハの洗浄方法。 (R1)a(H)3-aSi-N(R2)2 [1] [式[1]中、R1はそれぞれ互いに独立して、一部又は全ての水素元素がフッ素元素に置き換えられていても良い炭素数が1〜18の1価の炭化水素基からなる群から選ばれる少なくとも1つの基であり、R2はそれぞれ互いに独立して、炭素数が1〜8の1価の炭化水素基からなる群から選択される基である。aは2又は3である。]

IPC (1件)：

H01L 21/304

FI (5件)：

H01L21/304 647A ,  H01L21/304 651B ,  H01L21/304 651H ,  H01L21/304 651M ,  H01L21/304 651L

Fターム (38件)：

5F157AA09 ,  5F157AA28 ,  5F157AA29 ,  5F157AA30 ,  5F157AA71 ,  5F157AB02 ,  5F157AB03 ,  5F157AB89 ,  5F157AC23 ,  5F157BB01 ,  5F157BB11 ,  5F157BB66 ,  5F157BC03 ,  5F157BC04 ,  5F157BC52 ,  5F157BF02 ,  5F157BF04 ,  5F157BF22 ,  5F157BF72 ,  5F157BF82 ,  5F157BG03 ,  5F157BG32 ,  5F157BG39 ,  5F157BG44 ,  5F157BG45 ,  5F157BG46 ,  5F157BH18 ,  5F157CB13 ,  5F157CB14 ,  5F157CB15 ,  5F157CB22 ,  5F157CB23 ,  5F157CB29 ,  5F157CB32 ,  5F157CF34 ,  5F157DA21 ,  5F157DB03 ,  5F157DB33