研究者
J-GLOBAL ID:201801002666548192   更新日: 2022年09月24日

伊藤 治彦

Ito Haruhiko
競争的資金等の研究課題 (7件):
  • 2016 - 2018 高硬度アモルファス窒化炭素薄膜の形成と薄膜堆積メカニズムの解明
  • 水素含有ラジカルの分光計測にもとづく電界放出型マイクロプラズマ素子の最適化
  • エネルギー制御されたイオン衝撃によるアモルファス窒化炭素の超硬質化ダイナミクス
  • アモルファス窒化炭素材料の波長可変深紫外in situ共鳴ラマン分光計測
  • 高窒素含有・超硬質アモルファスカーボンナイトライドの創製
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論文 (41件):
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MISC (7件):
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特許 (1件):
  • プラズマCVD法を用いた硬質アモルファスSiC薄膜の形成
講演・口頭発表等 (35件):
  • Synthesis and Structural Analysis of Hydrogenated Amorphous Carbon Nitrides with High [N]/([N]+[C]) Ratios
    (IUMRS-ICAM2017 2017)
  • CN(X2-sigma+) Radicals as the Precursor of Hydrogenated Amorphous Carbon Nitride Films
    (IPS2016 2016)
  • Si(CH3)4の放電分解によるa-SiCx:H薄膜の形成 - 表面O原子と膜厚に関する考察
    (2017年 第64回応用物理学会春季学術講演会 2016)
  • Fabrication of Hydrogenated Amorphous Silicon Carbide Films from Decomposition of Hexamethyldisilane with Microwave Discharge Flow of Ar
    (Dry Process Symposium 2015 2015)
  • Precursor of N atoms of Hydrogeneated Amorphous Carbon Nitride Films Formed from the Microwave Discharge of C2H2/N2 Gas Mixture
    (ISPlamsa 2015 2015)
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経歴 (4件):
  • 2007/04/01 - 現在 長岡技術科学大学 准教授
  • 1994/04/01 - 2007/03/31 長岡技術科学大学 助教授
  • 1989/01/01 - 1994/03/31 長岡技術科学大学 助手
  • 1988/04/01 - 1988/12/31 分子科学研究所 日本学術振興会特別研究員
所属学会 (1件):
ニューダイヤモンドフォーラム
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