研究者
J-GLOBAL ID:201801010758154215   更新日: 2021年06月07日

加藤 慎也

カトウ シンヤ | Kato Shinya
所属機関・部署:
職名: 助教
ホームページURL (1件): http://s-lab.web.nitech.ac.jp/
研究分野 (1件): 電気電子材料工学
研究キーワード (2件): ナノ材料 シリコン 太陽電池 ,  ナノ材料 シリコン 太陽電池 熱発電、リチウムイオン電池
競争的資金等の研究課題 (8件):
  • 2020 - 2022 メカノサーマル工学による熱電 技術の低コスト化と高付加価値 化
  • 2020 - 2021 熱電発電素子で大電力を得るためのバルクシリコン材料の開発
  • 2019 - 2021 革新的熱回収・量産技術による普及型熱電デバイスの開発
  • 2019 - 2020 シリコンナノワイヤーとシリコンポーラス構造を複合した新規リチウムイオン電池の負極材料の開発
  • 2017 - 2020 ホットプレス法によるシリコンナノ粒子膜の多結晶化とワイヤー型極薄膜太陽電池の作製
全件表示
論文 (41件):
もっと見る
MISC (1件):
  • Y. Kurokawa, Y. Watanabe, S. Kato, Y. Yamada, A. Yamada, Y. Ohta, Y. Niwa, M. Hirota. Observation of Light Scattering Properties of Silicon Nanowire Arrays. Proc. of IEEE 39TH PHOTOVOLTAIC SPECIALISTS CONFERENCE (PVSC). 2013. 1880-1884
特許 (2件):
  • 透明導電膜の製造方法および透明導電膜
  • 太陽電池およびその製造方法
講演・口頭発表等 (81件):
  • Cs-Bi-I系ペロブスカイト薄膜の作製
    (第17回「次世代の太陽光発電システム」シンポジウム 2020)
  • Impact of thickness on electrical properties of SILAR-prepared BiOI photovoltaic cell studied by I-V measurement and electrochemical impedance spectroscopy analysis
    (International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM) 2020)
  • The thickness effect on the BiOI thin films prepared by SILAR
    (第81回応用物理学会秋季学術講演会 2020)
  • Effect of Hydrogen Plasma Treatment on Silicon Quantum Dot Multilayers Using Amorphous SiOx
    (37th European PV Solar Eneregy Conference and Exhibition 2020)
  • Effect of TiOx and TiO2 Layer on the Photovoltaic Property of BiOI Films
    (International Conference on Science and Technology (ICST) 2020)
もっと見る
学歴 (3件):
  • 2010 - 2013 東京工業大学 電子物理工学専攻
  • 2008 - 2010 名古屋工業大学 未来材料創成工学専攻
  • 2004 - 2008 名古屋工業大学 電気電子工学科
学位 (1件):
  • 工学(博士) (東京工業大学)
経歴 (2件):
  • 2016/01/01 - 現在 名古屋工業大学 大学院 つくり領域 助教
  • 2013/04/01 - 2015/12/31 国立研究開発法人 科学技術振興機構 革新的エネルギー研究開発拠点形成事業 研究員
受賞 (5件):
  • 2019/06/04 - 名古屋工業大学 名古屋工業大学 2019年 優秀賞
  • 2018/03 - 名古屋工業大学若手研究イノベーター養成センター 若手研究イノベータ奨励賞
  • 2017/02 - International Conference on Nanoscience and Nanotechnology2017 International Conference on Nanoscience and Nanotechnology2017 Best Oral Presentation Award Fabrication of a pn junction on a silicon substrate using silicon nanoparticles
  • 2012 - 学振175委員会 イノベイティブPV奨励賞 Atomic Layer Deposition (ALD)を用いたシリコンナノワイヤアレイのパッシベーション膜の作製
  • 2012 - 三洋クリーンテクノロジー財団 ソーラーエネルギー論文コンクール2012研究論文賞 シリコンナノワイヤアレイへのパッシベーション膜の作製と有効拡散長の評価
所属学会 (1件):
応用物理学会
※ J-GLOBALの研究者情報は、researchmapの登録情報に基づき表示しています。 登録・更新については、こちらをご覧ください。

前のページに戻る