研究者
J-GLOBAL ID:201801019584176971   更新日: 2020年09月01日

新井 貴司

Takashi Arai
所属機関・部署:
研究分野 (1件): 無機材料、物性
研究キーワード (3件): 薄膜 ,  セラミックス ,  化学溶液法
競争的資金等の研究課題 (1件):
  • 2016 - 2017 Si基板上に液相法で作製した緩和型強誘電体薄膜の特性に与える残留応力の影響の解明
論文 (10件):
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講演・口頭発表等 (26件):
  • Effect of steric hindrance on preparation of precursor solution for (K0.5Na0.5)NbO3 thin films
    (The 13th Pacific Rim Conference of Ceramic Societies (PACRIM13) 2019)
  • 強誘電体薄膜の結晶構造と電気特性の関係
    (第46回結晶成長国内会議(JCCG-46) 2017)
  • Effect of composition on CSD-derived PMN-PT thin films on Si
    (The 34th International Japan- Korea Seminar on Ceramics 2017)
  • セラミックス薄膜の溶液法による作製
    (富士山麓アカデミック&サイエンスフェア2016 2016)
  • Si基板上にCSD法で作製したPMN-PT薄膜の電気特性に与える電極構造の影響
    (第6回日本セラミックス協会関東支部若手研究発表交流会 2016)
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学位 (1件):
  • 博士(工学) (静岡大学)
所属学会 (1件):
日本セラミックス協会
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