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J-GLOBAL ID：201802210132378170   整理番号：18A0619111

Ni(111)基板からの界面相互作用によるグラフェンのふっ素化活性を増強する【Powered by NICT】

Enhance the fluorination activity of graphene via the interfacial interaction from Ni(1 1 1) substrate

著者 (9件)： Gao Lei (Corrosion and Protection Center, Key Laboratory for Environmental Fracture (MOE), University of Science and Technology Beijing, Beijing 100083, China) ,  Chen Xinchun (State Key Laboratory of Tribology, Tsinghua University, Beijing 100084, China) ,  Yan Yu (Corrosion and Protection Center, Key Laboratory for Environmental Fracture (MOE), University of Science and Technology Beijing, Beijing 100083, China) ,  Liu Yanmin (State Key Laboratory of Tribology, Tsinghua University, Beijing 100084, China) ,  Song Aisheng (State Key Laboratory of Tribology, Tsinghua University, Beijing 100084, China) ,  Ma Tianbao (State Key Laboratory of Tribology, Tsinghua University, Beijing 100084, China) ,  Hu Yuanzhong (State Key Laboratory of Tribology, Tsinghua University, Beijing 100084, China) ,  Su Yanjing (Corrosion and Protection Center, Key Laboratory for Environmental Fracture (MOE), University of Science and Technology Beijing, Beijing 100083, China) ,  Qiao Lijie (Corrosion and Protection Center, Key Laboratory for Environmental Fracture (MOE), University of Science and Technology Beijing, Beijing 100083, China)
資料名： Computational Materials Science  (Computational Materials Science)
巻： 147  ページ： 28-33  発行年： 2018年 
JST資料番号： W0443A  ISSN： 0927-0256  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： グラフェンの機能化は,その化学的,構造的及び電子的特性を修飾することにより新規な性質を提供すると,集中的に研究されている。グラフェンの表面活性を増加するための一つの有効な方法として,化学的可制御性と地形均一性によるグラフェンのフッ素化はまだもったいぶっ挑戦的な強く望まれている。本研究では,密度汎関数理論計算は,Ni(111)やグラファイト上のグラフェンのフッ素化活性を調べるために実施した。結果はグラフェンとNi(111)の間の界面相互作用はC原子とNi原子間の集中電荷移動によるグラフェン上のF原子の結合エネルギーを顕著に増強できることを示した。Ni(111)のグラフェンと最上層の原子積層は,F原子の結合エネルギーに顕著な影響を持ち,Ni(111)の中空サイトでのC原子はフッ素化する可能性が高い。添加では,Ni(111)からの閉込めのために,グラフェンの結晶構造と波形は,フッ素化後に維持されている。グラファイト上のグラフェンの場合では,そのフッ素化活性は単層グラフェンに類似していた。さらに,Ni(111)上のグラフェンのフッ素化活性は層依存であることを見出し,グラフェン層の増加と共にNi(111)からの界面相互作用の減衰の結果として減少した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 結晶構造 ,  可制御性 ,  電荷移動 ,  グラファイト ,  *グラフェン ,  結合エネルギー ,  密度汎関数法 ,  界面活性 ,  *フッ素化 ,  *ニッケル
準シソーラス用語： 単層グラフェン ,  密度汎関数計算 ,  *界面相互作用 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： グラフェン ,  によるフッ素化 ,  界面相互作用 ,  DFT計算

分類 (2件)： 表面の電子構造  (BM02080J) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (6件)： Ni ,  界面相互作用 ,  グラフェン ,  ふっ素化 ,  活性 ,  増強