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J-GLOBAL ID：201802210883906580   整理番号：18A2156171

Heinz Maier-Leibnitz ZentrumのPGAA施設における中性子深度プロファイリングの材料科学への応用【JST・京大機械翻訳】

Materials science applications of Neutron Depth Profiling at the PGAA facility of Heinz Maier-Leibnitz Zentrum

著者 (8件)： Trunk M. (Physics Department, Technical University of Munich, Garching D-85748, Germany) ,  Wetjen M. (Chair of Technical Electrochemistry, Chemistry Department and Catalysis Research Center, Technical University of Munich, Garching D-85748, Germany) ,  Werner L. (Physics Department, Technical University of Munich, Garching D-85748, Germany) ,  Gernhaeuser R. (Physics Department, Technical University of Munich, Garching D-85748, Germany) ,  Maerkisch B. (Physics Department, Technical University of Munich, Garching D-85748, Germany) ,  Revay Zs. (Heinz Maier-Leibnitz Zentrum, Technical University of Munich, Garching D-85748, Germany) ,  Gasteiger H.A. (Chair of Technical Electrochemistry, Chemistry Department and Catalysis Research Center, Technical University of Munich, Garching D-85748, Germany) ,  Gilles R. (Heinz Maier-Leibnitz Zentrum, Technical University of Munich, Garching D-85748, Germany)
資料名： Materials Characterization  (Materials Characterization)
巻： 146  ページ： 127-134  発行年： 2018年 
JST資料番号： D0448C  ISSN： 1044-5803  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 中性子深さプロファイリング(NDP)は,ほとんどの材料マトリックスにおける濃度プロファイルを監視するための非破壊,同位体敏感プロファイリング技術である。NDPは6Liに敏感であり,リチウムはセラミック,光導波路またはエネルギー貯蔵システムのような異なる材料科学応用に広く使われているので,NDPは広範囲の研究課題に答える。本研究では,MLZにおける最近開発された装置N4DPを用いて,従来の分析技術ではほとんどアクセスできない2つの研究課題に取り組んだ。最初に,光導波路応用のためのニオブ酸リチウム薄膜内のリチウム形成の均一性を調べた。その後,リチウムイオン電池用のシリコン-グラファイト電極の固体電解質-界面(SEI)における不活性リチウムの蓄積をex situで研究した。材料の質量負荷は2つの応用の間でかなり異なるので,異なる粒子信号を数学的に分離し,高い質量負荷を持つ試料を調べることができる新しい分析技術を導入した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 光導波路 ,  中性子 ,  界面 ,  固体電解質 ,  *材料科学 ,  セラミック ,  ニオブ酸リチウム ,  濃度分布 ,  黒鉛電極 ,  リチウム ,  リチウムイオン電池 ,  深さプロフィル ,  薄膜
準シソーラス用語： エネルギー貯蔵システム ,  *プロファイリング , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 中性子深さプロファイリング ,  リチウムイオン電池 ,  薄膜 ,  固体電解質界面 ,  計装

分類 (5件)： モルタル,コンクリート  (RA06042H) ,  変態組織,加工組織  (WB01030N) ,  廃石処理一般  (UA08010J) ,  顕微鏡法  (BK01040E) ,  光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H)

タイトルに関連する用語 (6件)： 施設 ,  中性子 ,  深度 ,  プロファイリング ,  材料科学 ,  応用