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J-GLOBAL ID：201802211291457962   整理番号：18A1743699

異なる窒素ガス圧パルスレーザ蒸着窒化チタン薄膜の構造と電気的性質【JST・京大機械翻訳】

Structure and electrical properties of titanium nitride thin films prepared by pulsed laser deposition at different pressures

著者 (5件)： Li Yuxiong (上海大学 材料科学与工程学院,上海 200444;中国科学院蘇州納米技術与納米倣生研究所 納米器件与応用重点実験室,江蘇 蘇州 215123) ,  Sui Zhanpeng (中国科学院蘇州納米技術与納米倣生研究所 納米器件与応用重点実験室,江蘇 蘇州,215123) ,  Gu Chengyan (中国科学院蘇州納米技術与納米倣生研究所 納米器件与応用重点実験室,江蘇 蘇州,215123) ,  Chen Yigang (上海大学 材料科学与工程学院,上海,200444) ,  Jiang Chunping (中国科学院蘇州納米技術与納米倣生研究所 納米器件与応用重点実験室,江蘇 蘇州,215123)
資料名： Gongneng Cailiao  (Gongneng Cailiao)
巻： 49  号： 6  ページ： 6196-6200  発行年： 2018年 
JST資料番号： C2095A  ISSN： 1001-9731  CODEN： GOCAEA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： パルスレーザー蒸着法により、高純度TiNをターゲットとし、650°Cを成長温度とし、サファイアを基板とし、窒素ガス圧がそれぞれ1、2と3Paの条件下で窒化チタン薄膜を作製した。窒化チタン薄膜の成長品質と電気的性質に及ぼす窒素ガス圧の影響を研究した。研究により、異なる窒素ガス圧条件下で、いずれも高品質の窒化チタン薄膜が得られ、その表面が緻密で、(111)結晶面が優先的に成長し、金属性を有することが分かった。窒素圧の増加に伴い、窒化チタン薄膜の(111)結晶面に対応する回折ピークは高角度方向へ移動し、窒化チタン薄膜のN/Tiは減少し、シート抵抗は減少し、反射スペクトルの最低点は短波長方向にドリフトする。結果は,窒化チタン薄膜の化学組成と金属性が窒素ガス圧によって調節できることを示した。Data from Wanfang. Translated by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *薄膜 ,  シート抵抗 ,  金属性 ,  サファイア ,  結晶面 ,  反射スペクトル ,  化学組成 ,  *薄膜成長 ,  *窒素 ,  *電気的性質 ,  *チタン ,  *パルスレーザ蒸着 ,  品質 ,  基板
準シソーラス用語： *窒化チタン ,  *ガス圧 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： titanium nitride ,  pulsed laser deposition ,  nitrogen pressure ,  metallic ,  reflectivity

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (6件)： 窒素ガス ,  圧 ,  パルスレーザ蒸着 ,  窒化 ,  チタン薄膜 ,  電気的性質