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J-GLOBAL ID:201802211618715474   整理番号:18A0615601

強化された光触媒H_2進化のためのin situ BF共ドープg C_3N_4の後活性化【Powered by NICT】

Post-activation of in situ BF codoped g-C3N4 for enhanced photocatalytic H2 evolution
著者 (6件):
資料名:
巻: 441  ページ: 621-630  発行年: 2018年 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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水からH_2の光生成を強化した多孔質黒鉛状窒化炭素ポリマ(p CN BF)はドーパントとそれに続く空気中での焼成によりとして[Emim]BF_4を用いたその場ほう素およびフッ素共ドーピングを含む2段処理プロセスによって調製した。修飾構造を特性化し,BとFのドーピング状態を解明するために使用したいくつかの技術in-situドーピング法は,CNの分子組成へのヘテロ原子の効率的なドーピングが必要であることを示した。BおよびFのドーピング状態の差はBドーピングCNの内部骨格における一次既存ことであったが,Fドーピングは単に表面層中に存在する。内部は強化された可視光吸収のBと後焼結プロセス中に均一な多孔性構造の産生をドープした。BF同時ドーピングおよび活性化後の相乗効果,p CN BFは非常に強化された光電子発生,透過および分離を示したことにより,H_2進化(351μH~( 1))に対して高い光触媒活性,BF共ドーピング(CN BF)またはポストアニーリング(P CN)で修飾したのみの試料よりも13及び5倍高いを行う。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (3件):
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光物性一般  ,  酸化物薄膜  ,  半導体薄膜 
タイトルに関連する用語 (5件):
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