文献

J-GLOBAL ID：201802212291977935   整理番号：18A1900162

マイクロアレイ構造による265nm UVC-LEDの光抽出効率向上【JST・京大機械翻訳】

Light extraction efficiency enhancement of 265nm UVC-LED with Micro-array structure

著者 (5件)： Wang Lei (Guangxi Key Laboratory of Manufacturing System & Advanced Manufacturing Technology, School of Mechanism and Electrical Engineering Guilin University of Electronic Technology, Guilin, China) ,  Yang Daoguo (Guangxi Key Laboratory of Manufacturing System & Advanced Manufacturing Technology, School of Mechanism and Electrical Engineering Guilin University of Electronic Technology, Guilin, China) ,  Wang Xiyou (Guangxi Key Laboratory of Manufacturing System & Advanced Manufacturing Technology, School of Mechanism and Electrical Engineering Guilin University of Electronic Technology, Guilin, China) ,  Yang Zhangping (Guangxi Key Laboratory of Manufacturing System & Advanced Manufacturing Technology, School of Mechanism and Electrical Engineering Guilin University of Electronic Technology, Guilin, China) ,  Cai Miao (Guangxi Key Laboratory of Manufacturing System & Advanced Manufacturing Technology, School of Mechanism and Electrical Engineering Guilin University of Electronic Technology, Guilin, China)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2018  号： ICEPT  ページ： 823-827  発行年： 2018年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： AlGaNベースのDUV-LEDは,200~300nmの波長範囲を持ち,無機密閉パッケージ技術で採用されていることは良く知られている。重要なことに,石英ガラスは紫外線エージングを防ぐことができ,同時に密封パッケージに適用することができる。しかしながら,ベアチップ実装と比較して,石英は,空気と石英ガラスの間の屈折率差のためにFresnel反射損失を引き起こし,それはUVC-LEDの光束を減少させる。したがって,反射損失を低減し,UVC光束を増加させる方法を探索することが急務である。本論文では,石英レンズのためのいくつかのマイクロ加工法を提案した。モンテカルロ法を用いて紫外線を追跡し,厳密結合波解析法に基づいて数値シミュレーションを行った。UV光に及ぼす異なるアレイ微細加工構造の影響を解析した。結果は,片側マイクロ処理アレイが265nm UVC-LEDの強度を著しく増加させることを示した。内部石英の微細加工のサイズが増加すると,レンズは紫外線に対して増強効果を有する。さらに,マイクロ処理は光の濃度を強化し,紫外線の強度を効果的に増加させることができる。Copyright 2018 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 紫外線 ,  微細加工 ,  *石英 ,  モンテカルロ法 ,  屈折率 ,  シミュレーション ,  マイクロマシニング ,  レンズ ,  石英ガラス ,  光束
準シソーラス用語： 数値シミュレーション ,  Fresnel反射 ,  波長領域 ,  窒化アルミニウムガリウム ,  *光取出し効率 ,  *マイクロアレイ , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 図形・画像処理一般  (JE04010I)

タイトルに関連する用語 (4件)： マイクロアレイ ,  UVC ,  LED ,  光抽出効率