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J-GLOBAL ID：201802212810274399   整理番号：18A0761696

光感受性陰イオン界面活性剤の合成と表面性能【JST・京大機械翻訳】

Preparation and Surface Properties of a Photosensitive Anionic Surfactant

著者 (3件)： Zhi Yinjuan (貴州大学化学与化工学院,貴州貴陽,550025) ,  Jiang Xiaoming (貴州大学化学与化工学院,貴州貴陽,550025) ,  Hao Chunling (貴州大学農学院,貴州貴陽,550025)
資料名： Yingxiang Kexue Yuguanghuaxue  (Yingxiang Kexue Yuguanghuaxue)
巻： 35  号： 6  ページ： 861-867  発行年： 2017年 
JST資料番号： C3040A  ISSN： 1674-0475  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 本論文では、アゾベンゼン基を含む陰イオン界面活性剤を調製し、その表面活性及び方解石分解物の濡れ性を紫外線照射により調節できる。紫外線照射後に,界面活性剤の臨界ミセル濃度(cmc),最低表面張力(γcmc),分子限界占有面積(Amin)が増加し,飽和吸着容量(Γmax)と表面張力の減少効率(pC20)が低下し,方解石の濡れ能力が増加した。Data from Wanfang. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 分解物 ,  *界面活性 ,  濡れ ,  界面張力 ,  方解石 ,  *界面活性剤 ,  臨界ミセル濃度 ,  *陰イオン界面活性剤 ,  紫外線照射 ,  芳香族化合物 ,  アゾ化合物
準シソーラス用語： 吸着容量 ,  *光感受性 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： photosensitive ,  azobenzene ,  surfactant ,  photoisomerization ,  surface tension ,  contact angle

分類 (4件)： ミセル  (CB11020N) ,  その他の洗浄剤  (YG02040W) ,  固-液界面  (CB12050B) ,  液-気界面  (CB12020U)

物質索引 (1件)： アゾベンゼン

タイトルに関連する用語 (2件)： 光感受性 ,  陰イオン界面活性剤