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J-GLOBAL ID：201802212829252903   整理番号：18A0358566

シリカ系分子ふるい膜のネットワーク制御とNormalized Knudsen-based Permeance(NKP)法による細孔径評価

Design of Amorphous Silica Network Structure for Molecular Sieving Membranes and Evaluation of Pore Size by Normalized Knudsen-based Permeance (NKP)

著者 (2件)： 金指正言 (広島大 大学院工学研究科) ,  都留稔了 (広島大 大学院工学研究科)
資料名： ゼオライト  (Zeolite News Letters)
巻： 35  号： 1  ページ： 13-22  発行年： 2018年01月31日 
JST資料番号： L1799A  ISSN： 0918-7774  CODEN： ZEOREM  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： アモルファスシリカ膜は,結晶性シリカよりもルースであるため,水素やヘリウムはアモルファスシリカネットワークを透過することができる。また,気相蒸着(CVD)法,ゾル-ゲル法による水素分離膜は,他の無機材料と比較して薄膜での製膜が可能であることから,高水素選択透過性を示すことが報告されている。本稿ではゾル-ゲル法によるアモルファスシリカネットワーク構造制御として,ネットワーク構造の均一制御の可能性が示された,環状アルコキシド法,アニオンであるフッ素をシリカネットワークにドープするアニオンドープ法について紹介する。また,サブナノサイズの細孔径を定量的に評価可能な手法として近年注目されている,Normalized Knudsen-based Permeance(NKP)プロット,k₀プロットについて紹介し,シリカ系膜における水素有効分子サイズについて解説する。(著者抄録)

シソーラス用語： *二酸化ケイ素 ,  *細孔径 ,  ネットワーク構造 ,  ゾル-ゲル法 ,  フッ素 ,  ドーピング ,  *多孔質体 ,  非晶質 ,  アルコラート ,  アニオン ,  薄膜 ,  合成ゼオライト ,  透気性 ,  活性化エネルギー ,  透過率 ,  *膜透過 ,  オリゴマ ,  ポリシルセスキオキサン ,  高分子有機-無機ハイブリッド ,  水素 ,  分子ふるい ,  *ガス分離 ,  拡散係数 ,  焼成 ,  サイズ効果 ,  二酸化炭素 ,  ヘリウム ,  窒素 ,  フッ化硫黄 ,  Knudsen数 ,  数学モデル ,  ゼオライト膜 ,  多孔質膜 ,  多面体オリゴシルスセスキオキサン ,  アルカン
準シソーラス用語： POSS【オリゴマ】

分類 (2件)： 膜分離  (XD02120Z) ,  各種物理的手法  (CC01030W)

物質索引 (1件)： メタン

引用文献 (40件)：

• 喜多英敏監修, エネルギー・化学プロセスにおける膜分離技術, S&T出版 (2014).
• T. Tsuru, J. Sol-Gel Sci. Technol., 46, 349-361 (2008).
• N. W. Ockwig, T. M. Nenoff, Chem. Rev, 107, 4078-4110 (2007).
• 金指正言,都留稔了, シリカ系分子ふるい膜の細孔径制御と透過特性, 幸塚広光監修, ゾル-ゲルテクノロジーの最新動向, シーエムシー出版, p.169-180 (2017).
• P. Hacarlioglu, D. Lee, G. V. Gibbs, S. T. Oyama, J. Membr. Sci., 313, 277-283 (2008).

タイトルに関連する用語 (6件)： シリカ ,  分子ふるい ,  ネットワーク制御 ,  法 ,  細孔径 ,  評価