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J-GLOBAL ID：201802213015249920   整理番号：18A1645877

光電気化学的水酸化のためのシーディング-水熱法により成長させたCuWO_4膜【JST・京大機械翻訳】

CuWO₄ films grown via seeding-hydrothermal method for photoelectrochemical water oxidation

著者 (3件)： Zhang Zhen (Key Laboratory for Anisotropy and Texture of Materials (MoE), School of Materials Science and Engineering, Northeastern University, Shenyang 110819, China) ,  Xiao Caixia (Key Laboratory for Anisotropy and Texture of Materials (MoE), School of Materials Science and Engineering, Northeastern University, Shenyang 110819, China) ,  Li Song (Key Laboratory for Anisotropy and Texture of Materials (MoE), School of Materials Science and Engineering, Northeastern University, Shenyang 110819, China)
資料名： Materials Letters  (Materials Letters)
巻： 232  ページ： 25-28  発行年： 2018年 
JST資料番号： E0935A  ISSN： 0167-577X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 水熱法は種々の形態の金属酸化物膜の作製に広く用いられている。CuWO_4は化学燃料への光電気化学変換のための有望な光アノード材料である。この報告では,FTO基板上のCuWO_4膜を,CuOとWO_3の混合相のみが適度な温度(180°C)の反応条件下で得られるシード層を導入することにより水熱的に合成することを報告する。光電気化学測定は,CuWO_4の光活性が水熱溶液の濃度に依存することを示した。反応溶液の組成をWリッチなWO_3-CuWO_4複合膜に調整することにより,電荷分離の増強により光電気化学的性能が向上した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *水熱合成 ,  複合膜 ,  *ヒドロキシ化 ,  酸化第二銅 ,  *光電気化学 ,  電荷分離 ,  基板 ,  薄膜
準シソーラス用語： 光活性化 ,  シード層 ,  反応条件 ,  混合相 ,  光アノード ,  *シーディング , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 光アノード ,  CuWO_4 ,  薄膜 ,  水分解 ,  半導体

分類 (2件)： 塩  (CD01050V) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z)

タイトルに関連する用語 (5件)： 光電気化学 ,  水酸化 ,  シーディング ,  水熱法 ,  成長