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J-GLOBAL ID：201802213022844264   整理番号：18A1330542

ナノインプリントリソグラフィーにおける残留層厚均一化のためのチップスケールパターン修正法

Chip-scale pattern modification method for equalizing residual layer thickness in nanoimprint lithography

著者 (3件)： YOUN Sung-Won (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN) ,  SUZUKI Kenta (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN) ,  HIROSHIMA Hiroshi (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 57  号： 6S1  ページ： 06HG03.1-06HG03.7  発行年： 2018年06月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *リソグラフィー ,  *半導体プロセス ,  *原価 ,  *回路パターン形成 ,  解析 ,  型 ,  計算機シミュレーション
準シソーラス用語： *UVナノインプリントリソグラフィー ,  *低コスト ,  ヒストグラム解析 ,  フォトマスクパターン

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  集積回路一般  (NC03161C)

引用文献 (35件)：

• S. Y. Chou, P. R. Krauss, and P. J. Renstrom, Appl. Phys. Lett. 67, 3114 (1995).
• J. Haisma, M. Verheijen, K. van den Heuvel, and J. van den Berg, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 4124 (1996).
• L. J. Guo, J. Phys. D 37, R123 (2004).
• S. Matsui, H. Hiroshima, Y. Hirai, and M. Nakagawa, Microelectron. Eng. 133, 134 (2015).
• H. Taylor and D. Boning, Proc. SPIE 7641, 76410U (2010).

タイトルに関連する用語 (5件)： ナノインプリントリソグラフィー ,  残留 ,  層厚 ,  均一化 ,  修正法