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J-GLOBAL ID：201802213091084232   整理番号：18A1407070

タンタルドープチタニア薄膜のゾル-ゲル法と光電性能制御【JST・京大機械翻訳】

Tuning of Electrical and Optical Properties of Tantalum Doped TiO2 Flims Prepared by Sol-gel Method

著者 (5件)： Li Wen (浙江大学硅材料国家重点実験室材料科学与工程学系,浙江杭州,310027) ,  Xu Gang (浙江大学硅材料国家重点実験室材料科学与工程学系,浙江杭州,310027) ,  Wang Jianxun (浙江大学硅材料国家重点実験室材料科学与工程学系,浙江杭州,310027) ,  Han Gaorong (浙江大学硅材料国家重点実験室材料科学与工程学系,浙江杭州,310027) ,  Song Chenlu (浙江大学硅材料国家重点実験室材料科学与工程学系,浙江杭州,310027)
資料名： Cailiao Kexue Yu Gongcheng Xuebao  (Cailiao Kexue Yu Gongcheng Xuebao)
巻： 36  号： 1  ページ： 10-14,106  発行年： 2018年 
JST資料番号： C2657A  ISSN： 1673-2812  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： ゾル-ゲル法によって石英基板上に異なるタンタルドープ濃度の二酸化チタン薄膜を調製し、その後の水素アニーリングの方法を採用して、その光電性能を改善し、TCO薄膜に用いる。SEM、XRDなどの測定手段により、薄膜の微視形態、結晶性能及び組成状態を観察し、四探針テスト、可視光透過率測定及びエリプソメトリーを用いて薄膜の電気的及び光学的性能を得た。結果は,Ta5+がTiO2格子の中に存在し,TiO2薄膜のn型伝導特性を大いに向上させ,これはタンタルドープ後のフェルミ準位の伝導帯への移動に起因することを示した。水素アニーリング後,チタニアの結晶サイズは大きくなり,膜の結晶性能は改善され,より高い濃度の酸素空格子点のため,電気伝導率は明らかに向上した。タンタルドーピング濃度8%,抵抗率7.95Ωcm,可視光領域の透過率約75%のタンタルドープ酸化チタン薄膜が得られ,透明導電性薄膜の生産分野に有望である。Data from Wanfang. Translated by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 透過率 ,  プローブ ,  水素 ,  *ゾル-ゲル法 ,  電気伝導率 ,  電気抵抗率 ,  偏光解析法 ,  伝導バンド ,  焼なまし ,  結晶 ,  Fermi準位 ,  X線回折 ,  *薄膜
準シソーラス用語： *二酸化チタン ,  *光電気 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： Sol-gel ,  Ta:TiO2 ,  H2 annealing ,  electrical and optical properties

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： 薄膜 ,  ゾル ,  ゲル ,  光電