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J-GLOBAL ID：201802213320122569   整理番号：18A0005790

干渉計を辿る 第5章 非球面計測用干渉計 5.2 非球面の高精度干渉計測法

著者 (1件)： 市原裕
資料名： O plus E  (O plus E)
号： 458  ページ： 76-79  発行年： 2017年12月25日 
JST資料番号： Z0994A  ISSN： 0911-5943  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本稿は「O plus E」誌の連続講座記事である。半導体集積回路製造の中核となる半導体露光装置は,マスク上の集積回路パターンを,ウエハに焼付け転写する装置であるが,最先端の半導体露光装置では,38nmの解像度を達成している。本稿では,この精度の達成に対する投影レンズの非球面化,ならびに,それに伴う非球面干渉計測法について解説した。

シソーラス用語： *半導体集積回路 ,  *リソグラフィー ,  *非球面レンズ ,  *干渉計 ,  精度 ,  分解能
準シソーラス用語： 露光装置 ,  光干渉計

分類 (2件)： 干渉測定と干渉計  (BD07070G) ,  光デバイス一般  (BD06010L)

引用文献 (2件)：

• T. Gemma, S. Nakayama, H. Ichikawa, T. Yamamoto, Y. Fukuda, T. Onuki, and T. Umeda: “Interferometry with Null Optics for Testing Aspheric Surfaces at 1 nm Accuracy”, Initiatives of Precision Engineering at the Beginning of a Millennium, Edited by I. Inasaki, Kluwer Academic Publishers, pp. 679-683 (2001)
• H. Shiozawa, Y. Fukutomi, T. Ushioda, and S. Yoshimura : “Development of Ultra-Precision 3D-CMM Based on 3D Metrology Frame”, Proc. ASPE 1998 Annual Meeting, pp. 15-18 (1998)

タイトルに関連する用語 (4件)： 干渉計 ,  非球面 ,  計測 ,  干渉計測