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J-GLOBAL ID：201802213337126999   整理番号：18A1080146

ガラスセラミックの化学機械研磨に及ぼす添加剤の影響【JST・京大機械翻訳】

Effect of Additives on the Chemical Mechanical Polishing of Glass Ceramics

著者 (3件)： Bai Linshan (安徽工業大学化学与化工学院 安徽馬鞍山243002) ,  Wang Jinpu (安徽工業大学化学与化工学院 安徽馬鞍山243002) ,  Chu Xiangfeng (安徽工業大学化学与化工学院 安徽馬鞍山243002)
資料名： Runhua Yumifeng  (Runhua Yumifeng)
巻： 42  号： 11  ページ： 53-57  発行年： 2017年 
JST資料番号： C2971A  ISSN： 0254-0150  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： ガラスセラミックの化学機械研磨を,自作の研磨剤を用いて行い,そして,ガラス化学機械研磨材の除去速度と表面粗さに及ぼす,錯化剤,酸化剤,潤滑剤の種類,および添加量の影響を研究した。その結果;0.2%のEDTA錯化剤を研磨剤に加えたとき,材料の表面粗さは大いに減少した。2%の過硫酸アンモニウム酸化剤の添加により,滑らかな材料表面とより高い材料除去速度が得られた。EDTA錯化剤、過硫酸アンモニウム酸化剤プロパン、トリオール潤滑剤をSiO2研磨液に添加し、ガラスセラミックを化学機械研磨した。結果は,研磨したガラスセラミックの表面が非常に滑らかで,0.12nmのナノスケールの滑らかな表面に達し,材料除去速度が72.8nm/minに達することを示した。Data from Wanfang. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *ガラス ,  二酸化ケイ素 ,  *ガラスセラミック ,  *化学機械研磨 ,  研磨剤 ,  潤滑剤 ,  アルカン ,  脂肪族アミン ,  脂肪族カルボン酸 ,  アミノカルボン酸 ,  ジアミン
準シソーラス用語： ナノスケール ,  材料除去 ,  錯化剤 ,  除去速度 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： glass ceramics ,  chemical mechanical polishing ,  complexing agent ,  oxidant ,  lubricant

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (2件)： プロパン ,  EDTA

タイトルに関連する用語 (4件)： ガラス ,  セラミック ,  化学機械研磨 ,  添加剤