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J-GLOBAL ID:201802213476752497   整理番号:18A1303449

Kaバンド応用のためのInAlGaN/GaN HEMT技術【JST・京大機械翻訳】

InAlGaN/GaN HEMT technology for Ka band applications
著者 (16件):
資料名:
巻: 2018  号: MIKON  ページ: 234-237  発行年: 2018年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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InAlGaN/GaN HEMT技術を用いて最近の結果を得た。このヘテロ構造の材料利点を示し,いくつかの技術的側面を記述した。低遅れ効果と高電場能力を示した。30GHzにおいて10Wm-1までの電力密度が得られた。MMIC電力増幅器について簡単に報告した。Copyright 2018 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
増幅回路  ,  半導体集積回路 
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
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