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J-GLOBAL ID：201802213538835995   整理番号：18A0150369

時間分解その場レーザとX線散乱によるスピンコーティング時のサブミクロン構造の形成【Powered by NICT】

Sub-Micrometer Structure Formation during Spin Coating Revealed by Time-Resolved In Situ Laser and X-Ray Scattering

著者 (9件)： van Franeker Jacobus J. (Molecular Materials and Nanosystems and Institute for Complex Molecular Systems, Eindhoven University of Technology, P.O. Box 513, 5600, MB, Eindhoven, The Netherlands) ,  van Franeker Jacobus J. (Dutch Polymer Institute (DPI), P.O. Box 902, 5600, AX, Eindhoven, The Netherlands) ,  Hermida-Merino Daniel (DUBBLE CRG BM26@ESRF, Netherlands Organization for Scientific Research (NWO), 71 Avenue des Martyrs, 38000, Grenoble, France) ,  Gommes Cedric (Department of Chemical Engineering, University of Liege, Allee du six aoUt 3, B-4000, Liege, Belgium) ,  Arapov Kirill (Laboratory of Materials and Interface Chemistry, Department of Chemical Engineering and Chemistry, Eindhoven University of Technology, P.O. Box 513, 5600, MB, Eindhoven, The Netherlands) ,  Michels Jasper J. (Max Planck Institut fuer Polymerforschung, Ackermannweg 10, 55128, Mainz, Germany) ,  Janssen Rene A. J. (Molecular Materials and Nanosystems and Institute for Complex Molecular Systems, Eindhoven University of Technology, P.O. Box 513, 5600, MB, Eindhoven, The Netherlands) ,  Janssen Rene A. J. (Dutch Institute for Fundamental Energy Research, De Zaale 20, 5612, AJ, Eindhoven, The Netherlands) ,  Portale Giuseppe (Zernike Institute for Advanced Materials, University of Groningen, Nijenborgh 4, 9747, AG, Groningen, The Netherlands)
資料名： Advanced Functional Materials  (Advanced Functional Materials)
巻： 27  号： 46  ページ： ROMBUNNO.201702516  発行年： 2017年 
JST資料番号： W1336A  ISSN： 1616-301X  CODEN： AFMDC6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 溶液処理した高分子薄膜は多くの用途を持ち,有機エレクトロニクスとブロック共重合体ナノ加工である。これらの膜は,しばしば一つ以上の固体を含み,異なる相分離構造を示すことを溶液をスピンコーティングして行った。液滴状形態の形成機構はo-キシレンからのポリスチレン(PS)とフラーレン誘導体([6,6]-フェニルC_71酪酸メチルエステル,[70]PCBM)を処理することにより研究した。最終構造を透過型電子顕微鏡とすれすれ入射小角X線散乱(GISAXS)から決定した部分的にドメイン間距離100 1000nmのPSマトリックス中に埋め込まれた[70]PCBM液滴から構成されている。実時間でこれらの形態の形成を明らかにするために,レーザ干渉法及びレーザ散乱と結合した超高速その場GISAXSはスピンコーティング中に行った。その場厚さ測定とレーザ散乱は液-液相分離は約70vo1%溶媒で起こることを示した。100 400のみmsで,ほぼ乾燥[70]PCBMドメインは膨潤したPSマトリックスから突出し始めた。これらの結果は,Flory-Huggins理論を用いて計算した三元状態図を検証するために使用した。議論した手法は,非常に短い時間スケールで起こる薄膜中の相分離のようなソフトマターの基本的な側面を研究するために適用することができる。Copyright 2018 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： ポリスチレン ,  *レーザ ,  ナノメータ加工 ,  *スピンコーティング ,  軟質材料 ,  液滴 ,  ブロック共重合体 ,  透過型電子顕微鏡 ,  高分子薄膜 ,  微細構造 ,  厚み測定 ,  相分離 ,  状態図 ,  *X線散乱
準シソーラス用語： レーザ散乱 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： フラーレン ,  微細構造 ,  nanostructures ,  ポリマ ,  薄膜

分類 (3件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  太陽電池  (NC03084O)

タイトルに関連する用語 (5件)： 分解 ,  レーザ ,  X線散乱 ,  スピンコーティング ,  サブ