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J-GLOBAL ID：201802213591426925   整理番号：18A1697159

2ステップ絶縁破壊によるナノポア形成-薄膜部分の形成と該部分の貫通によるナノポア形成-

Two-step breakdown of a SiN membrane for nanopore fabrication: Formation of thin portion and penetration

著者 (4件)： YANAGI Itaru (Hitachi, Ltd.) ,  HAMAMURA Hirotaka (Hitachi, Ltd.) ,  AKAHORI Rena (Hitachi, Ltd.) ,  TAKEDA Ken-ichi (Hitachi, Ltd.)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 79th  ページ： ROMBUNNO.18a-222-3  発行年： 2018年09月05日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *細孔 ,...
準シソーラス用語： *ナノポア ,...

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分類 (2件)： 生物物理的研究法  (EA03020V) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： 絶縁破壊 ,  ナノポア ,  薄膜