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J-GLOBAL ID：201802213992877402   整理番号：18A0639514

MoS₂単層膜の成長条件・処理方法による蛍光スペクトルの変化

著者 (4件)： 島田敏宏 (北大 工) ,  上原史也 (北大 工) ,  柳瀬隆 (北大 工) ,  長浜太郎 (北大 工)
資料名： 日本表面科学会東北・北海道支部講演会講演予稿集  (日本表面科学会東北・北海道支部学術講演会講演予稿集)
巻： 2017  ページ： 18  発行年： 2018年03月08日 
JST資料番号： F1026A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *硫化モリブデン ,  化学蒸着 ,  *蒸着膜 ,  薄膜成長 ,  表面処理 ,  *蛍光スペクトル ,  光ルミネセンス ,  低次元系 ,  バンドギャップ ,  結晶度 ,  キャリア移動度 ,  熱処理 ,  焼なまし ,  周波数シフト ,  励起子 ,  単層膜
準シソーラス用語： エキシトン

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  無機化合物のルミネセンス  (BM08093J)

タイトルに関連する用語 (5件)： MoS2 ,  単層膜 ,  成長条件 ,  処理方法 ,  蛍光スペクトル