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J-GLOBAL ID：201802214539133526   整理番号：18A1507128

ナノインプリンティング光学素子用の新しい高屈折率エピスルフィド-チオール重合体【JST・京大機械翻訳】

A novel high-refractive index episulfide-thiol polymer for nanoimprinting optical elements

著者 (5件)： Tang Yunhui (State Key Laboratory of Chemical Resource Engineering, Beijing University of Chemical Technology, Beijing 100029, China. [e-mail]) ,  Pina-Hernandez Carlos ,  Niu Qijian ,  Nie Jun ,  Cabrini Stefano
資料名： Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices  (Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices)
巻： 6  号： 32  ページ： 8823-8831  発行年： 2018年 
JST資料番号： W2383A  ISSN： 2050-7526  CODEN： JMCCCX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高屈折率(590nmでn=1.707)を有する新しい光学高分子を,エピスルフィドとチオール二官能性単量体から成る開発した。エポキシドと無機チオシアン酸塩の反応により合成した9,9-ビス(4-グリシジルオキシフェニル)フルオレンのエピスルフィド誘導体は,4,4-チオジベンゼンチオールとの開環重合により反応し,スペクトルの可視領域にわたり高い透明度をもつ光学高分子を生成し,290°Cまで熱的に安定であった。開発したエピスルフィド-チオール光学高分子はナノスケールのサイズ分解能で160°Cで熱的にナノインプリントすることができる。サブミクロンとナノスケールのサイズの格子,二次元フォトニック結晶,およびプラノ凸の半球状マイクロレンズを含む異なるナノ構造を,優れたパターン忠実度と低い欠陥性で首尾よくナノインプリントした。これらの結果は,光学および光電子デバイスにおける応用のための可能性のある候補として,エピスルファイド-チオール光学高分子を示した。Copyright 2018 Royal Society of Chemistry All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *チオール ,  分解能 ,  凸形 ,  単量体 ,  スペクトル ,  ナノ構造 ,  *光学素子 ,  マイクロレンズ ,  透明度 ,  開環重合 ,  高分子 ,  ナノスケール ,  可視領域 ,  エポキシ化合物
準シソーラス用語： *ナノインプリント , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (4件)： 発光素子  (NC03082G) ,  光物性一般  (BM08010A) ,  塩  (CD01050V) ,  無機化合物一般及び元素  (CD01010D)

タイトルに関連する用語 (5件)： ナノインプリンティング ,  光学素子 ,  高屈折率 ,  チオール ,  重合体