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J-GLOBAL ID:201802215099191403   整理番号:18A0425007

硫酸キトサンの調製及び通常の陽イオン界面活性剤を用いたベシクル形成【Powered by NICT】

Preparation of chitosan sulfate and vesicle formation with a conventional cationic surfactant
著者 (6件):
資料名:
巻: 183  ページ: 240-245  発行年: 2018年 
JST資料番号: E0961A  ISSN: 0144-8617  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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高分子量と85%脱アセチル化キトサンは工業認め緑色と高反応性硫酸化剤ガスSO_3を用いてキトサン硫酸塩(CHS)を調製するために用いた。FT-IRおよび固体CP-MAS~13C NMRスペクトルは,硫酸基は元素分析の結果によると16.50%の硫黄含有量と1.75の置換度を有するキトサン鎖に導入することに成功したことを確認した。キトサン硫酸塩高分子電解質と逆荷電界面活性剤セチルトリメチルアンモニウムブロミドの混合物(CTAB)の凝集挙動を,表面張力,定常状態蛍光,濁度,ζ電位および透過型電子顕微鏡によって特性化した。結果はCHS/CTAB混合物は,かなり高い表面活性と低い臨界凝集濃度を有することを示した。CHS/CTAB混合物は協同疎水性と静電相互作用に起因する界面活性剤濃度の増加によるCHS鎖で被覆した球状凝集体,降水量,小胞とミセル凝集体を形成するに成功した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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