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J-GLOBAL ID：201802215403474002   整理番号：18A1507643

ガス絶縁HVDC装置における伝導過程:飽和イオン電流からマイクロ放電まで【JST・京大機械翻訳】

Conduction processes in gas-insulated HVDC equipment: from saturated ion currents to micro-discharges

著者 (2件)： Tschentscher Malte (High Voltage Laboratory, ETH Zurich, 8092 Zurich, Switzerland) ,  Franck Christian M. (High Voltage Laboratory, ETH Zurich, 8092 Zurich, Switzerland)
資料名： IEEE Transactions on Dielectrics and Electrical Insulation  (IEEE Transactions on Dielectrics and Electrical Insulation)
巻： 25  号： 4  ページ： 1167-1176  発行年： 2018年 
JST資料番号： W0578A  ISSN： 1070-9878  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 絶縁協調に対する主な挑戦として表面電荷蓄積が検出されたので,ガス絶縁高電圧直流(HVDC)装置における電荷発生を調べた。長年にわたって,研究者はガス絶縁成分からダウンスケールされたモデルスペーサを用いた連続イオン電流測定または表面帯電実験を用いて膨大な進歩を遂げてきた。前者の方法の低感度はその測定範囲を制限するが,後者の方法は時間がかかり,包括的モデリングを必要とする。本論文では,3000時間以上の表面電荷測定を示し,自然イオン化によるイオン電流からマイクロ放電開始までの全範囲の電荷発生過程をカバーした。ガス絶縁装置に従って,固体にはAl2O3充填エポキシ樹脂を用い,ガス絶縁には六フッ化硫黄(SF6)を用いた。ガス中の自然イオン化からのイオン対生成は,周囲の固体材料により著しく影響され,したがって,絶縁体積とともにスケールすることを実証した。マイクロ放電の開始から,表面伝導率が調べた電荷分布に影響しないので,鋭く局所的に制限された電荷パターンが形成される。分布に中心を持つ表面積からの一次電荷散逸は気体体積サイズによって説明できるが,放電電流は通常のイオン電流モデルでは再現できない。低電場では,観測された電荷減衰は,ガス中の自然イオン化からの電荷発生によって説明できない低磁場伝導過程の存在を示す。Copyright 2018 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： モデリング ,  フッ化硫黄 ,  帯電 ,  スペーサ ,  電荷 ,  電場 ,  *ガス絶縁 ,  イオン対 ,  電荷分布 ,  *イオン電流 ,  エポキシ樹脂 ,  表面電荷 ,  イオン化
準シソーラス用語： 放電電流 ,  *マイクロ放電 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 絶縁材料  (NA04030W) ,  開閉装置  (NB09030I)

タイトルに関連する用語 (7件)： ガス絶縁 ,  HVDC ,  伝導 ,  過程 ,  飽和 ,  イオン電流 ,  マイクロ放電