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J-GLOBAL ID：201802215586453323   整理番号：18A1450485

桑白皮ポリフェノールの抗酸化とUV照射による線維芽細胞光老化の修復作用【JST・京大機械翻訳】

Antioxidant and UV-induced fibroblasts photoaging repair effects of polyphenol from Cortex Mori

著者 (4件)： Wu Yongxiang (黄山学院生命与環境科学学院,安徽 黄山,245041) ,  Wu Liping (黄山学院生命与環境科学学院,安徽 黄山,245041) ,  Wang Weidong (黄山峰源生物科技有限公司,安徽 黄山,245600) ,  Jin Taiwan (安東国立大学食品科学与生物技術学院,韓国 安東,760749)
資料名： Shipin yu Jixie  (Shipin yu Jixie)
巻： 34  号： 2  ページ： 15-18  発行年： 2018年 
JST資料番号： C2726A  ISSN： 1003-5788  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 2,2-ビス(3-エチル-ベンゾチアゾール-6-スルホン酸)二アンモニウム塩(ABTS)と1を用いた。1-ジフェニル-2-トリニトロフェニルヒドラジン(DPPH)ラジカル消去法により、桑白皮ポリフェノールの抗酸化活性を研究した。invitroで繊維HS68細胞を培養し,紫外線(UV)照射により細胞の光老化モデルを構築し,MTT法により細胞増殖活性を測定した。酵素結合免疫吸着検定法(ELISA)を用いて,I型コラーゲン(PIP)の含有量を測定した。マトリックスメタロプロテイナーゼ-1(MMP-1)とPIPのmRNA発現は,リアルタイム蛍光定量的PCR(qRT-PCR)で測定した。その結果,桑白皮ポリフェノール(CMP)は顕著な抗酸化活性を有し,ABTS,DPPHラジカル消去作用に対するIC50はそれぞれ1.49と1.49であった。8.94μg/mL,陽性対照ブチルヒドロキシアニソール(BHA)のIC50は,それぞれ11.25,11.03μg/mLであった。CMPのラジカル消去能はBHAより強かった。UVモデル群と比較して,CMPは,線維芽細胞の増殖を有意に促進し(P<0.05),そして,濃度依存的に,損傷した細胞内のPIPの含有量を増加させた(P<0.05)。同時に、CMPはUV照射損傷細胞におけるMMP-1のmRNAレベルを顕著に下方制御し、PIPのmRNA発現を高める(P<0.05)。研究により、CMPはUV照射による皮膚の光老化に対して一定の修復作用があり、その作用機序はフリーラジカルの除去、細胞内MMP-1の発現抑制及びPIP合成の制御に関与している可能性がある。Data from Wanfang. Translated by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *線維芽細胞 ,  *酸化防止 ,  紫外線 ,  蛍光 ,  ダウンレギュレーション ,  *紫外線照射 ,  マトリックスメタロプロテイナーゼ ,  細胞増殖 ,  mRNA ,  ラジカル
準シソーラス用語： マトリックスメタロプロテイナーゼ1 ,  mRNA発現 ,  抗酸化活性 ,  ラジカル消去 ,  *光老化 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： Cortex Mori ,  polyphenol ,  antioxidant ,  fibroblasts ,  pho-toaging

分類 (4件)： 循環系の基礎医学  (GJ01020K) ,  遺伝子発現  (EC02040Q) ,  細胞生理一般  (EF02010S) ,  皮膚の基礎医学  (GF01020Y)

タイトルに関連する用語 (7件)： 桑白皮 ,  ポリフェノール ,  酸化 ,  UV照射 ,  線維芽細胞 ,  光老化 ,  修復