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J-GLOBAL ID:201802215605270966   整理番号:18A0854457

Bi2212における多量のアンダードーピングによるノード準粒子質量の高速増強【JST・京大機械翻訳】

Rapid enhancement of nodal quasiparticle mass with heavily underdoping in Bi2212
著者 (9件):
資料名:
巻: 536  ページ: 667-671  発行年: 2018年 
JST資料番号: H0676B  ISSN: 0921-4526  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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Bi_2Sr_2CaCu_2O8+δにおけるノード準粒子の低エネルギー角度分解光電子放出研究の実質的進歩を報告した。新しいデータは,アンダードープされたレベルから非常にアンダードープされたレベルまでサンプルをカバーする。また,広いドーピング範囲にわたって,hν=7.0eVの励起子-光子エネルギーを用いて決定されたノードのFermi速度を示した。hν=8.1と7.0eVの結果の間の整合性は,光電子放出行列要素の効果を除外することを可能にした。以前に報告されたデータと比較して,ノード有効質量は,最適にドープされたレベルから非常に低いドーピングレベルに向かって,約1.5倍に増加した。超伝導体から絶縁体への転移近傍での低ドーピングレベルでのノード準粒子質量の急速な増大を見出した。有効結合スペクトルλ(ω)を,質量増強因子の因果関数として,準粒子分散と散乱速度のエネルギー導関数から直接抽出した。約65meV付近のReλ(ω)のステップ状の増加が,Imλ(ω)のKramers-Kronig変換によって明らかに実証された。低エネルギーくりこみ効果を抽出するために,電子ボソン相互作用の簡単なモデルを計算した。このモデルは,準粒子質量への|ω|≦15meVにおけるくりこみの寄与が,アンダードープ試料における約65meVよりも大きいことを明らかにした。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
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酸化物薄膜  ,  磁性理論 

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