文献
J-GLOBAL ID:201802215672893499   整理番号:18A1759761

セラミック薄膜の乾燥収縮・応力生成特性

著者 (3件):
資料名:
巻: 67th  ページ: ROMBUNNO.515  発行年: 2018年03月13日 
JST資料番号: L0013B  ISSN: 2424-2748  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
セラミックの製造では乾燥プロセス過程のひび,割れ,そり等の発生が課題となる。これらの欠陥は,含水率分布による乾燥収縮の不均一性および内部応力生成が原因であり,歩留り低下の要因となる。本研究では,シート状に成形したセラミック薄膜の乾燥過程に発生する変形挙動を明らかにするとともに,セラミック薄膜の精密乾燥操作条件の探索を目的に,その第1段階としてセラミック薄膜の対流乾燥特性および収縮・変形・応力生成挙動に与える諸条件の影響を実験と理論の両面から明らかにした。(著者抄録)
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
半導体薄膜 
タイトルに関連する用語 (3件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る