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J-GLOBAL ID:201802218470882808   整理番号:18A0466550

ToF-SIMSと計算解析:ポリスチレン,ポリスチレンd_5,polypentafluorostyreneのフラグメンテーション機構【Powered by NICT】

ToF-SIMS and computation analysis: Fragmentation mechanisms of polystyrene, polystyrene-d5, and polypentafluorostyrene
著者 (9件):
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巻: 50  号:ページ: 220-233  発行年: 2018年 
JST資料番号: E0709A  ISSN: 0142-2421  CODEN: SIANDQ  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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ポリスチレンフェニルふっ素化ポリスチレン(5fps),フェニル重水素化ポリスチレン(5dps),および水素化ポリスチレン(PS)の飛行時間二次イオン質量分析フラグメンテーション機構を研究した。5fpsの正イオンスペクトルから,ベンジル,ベンゾシクロブテン,benzocyclopentene,シクロペンタン,およびトロピリウムシステムのような異性体構造を持ついくつかの特徴的な分子イオン構造を同定した。これらの構造をB3LYP D/jun cc pVDZ計算法により評価した。C_7H_2F_5~+(m/z=181),CyPent C_9H_3F_4~+(m/z=187),CyPent C_9H_4F_5~+(m/z=207),CyPent C_9H_2F_5~+(m/z=205)イオンの強度は共鳴安定化により増強された。5fpsから正のふっ素イオンはF(m/z=19),CF(m/z=31),CF_2(m/z=50)イオンフラグメントの損失によるふっ素含有少ない分子イオンを再配列し,生成する傾向があった。ふっ素含有多環芳香族イオンはそれらの炭化水素よりもはるかに低い強度を有していた。C_5H_5~+,C_6H_5~+,とC_7H_7~+イオンフラグメントの生成のためのフラグメンテーション機構,負イオンスペクトルの詳細な分析と実証を提案した。これらのイオンは,ペンタフルオロフェニルアニオン(C_6F_5~-)とH~+の放出と,それに続く1電子移動過程によって生成し,炭素-炭素結合生成による新しく生成したポリエンの環化。異なる電気陰性度の要素を持つペンダント基は対応するイオンの強度とフラグメンテーション過程に強い影響を及ぼした。Copyright 2018 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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質量分析  ,  原子・分子のクラスタ 
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