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J-GLOBAL ID：201802218720504448   整理番号：18A0431812

RFマグネトロンスパッタリングにより堆積したヒドロキシアパタイト膜の光学的及びマイクロ波誘電特性に及ぼす厚さの影響【Powered by NICT】

Effect of thickness on optical and microwave dielectric properties of Hydroxyapatite films deposited by RF magnetron sputtering

著者 (7件)： Das Apurba (Department of Physics, Indian Institute of Technology Guwahati, Guwahati, 781039, India) ,  Chikkala Anil Kumar (Department of Physics, Indian Institute of Technology Guwahati, Guwahati, 781039, India) ,  Bharti Gyan Prakash (Department of Physics, Indian Institute of Technology Guwahati, Guwahati, 781039, India) ,  Behera Rasmi Ranjan (Department of Mechanical Engineering, Indian Institute of Technology Guwahati, Guwahati, 781039, India) ,  Mamilla Ravi Sankar (Department of Mechanical Engineering, Indian Institute of Technology Guwahati, Guwahati, 781039, India) ,  Khare Alika (Department of Physics, Indian Institute of Technology Guwahati, Guwahati, 781039, India) ,  Dobbidi Pamu (Department of Physics, Indian Institute of Technology Guwahati, Guwahati, 781039, India)
資料名： Journal of Alloys and Compounds  (Journal of Alloys and Compounds)
巻： 739  ページ： 729-736  発行年： 2018年 
JST資料番号： D0083A  ISSN： 0925-8388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,多結晶ヒドロキシアパタイト[HAp,Ca_10(PO_4)6(OH)2]薄膜の構造的,光学的および誘電特性,ラジオ周波数(RF)マグネトロンスパッタリングを用いて堆積に関する知見を報告する。X線回折(XRD)研究は,石英基板上に堆積した膜の単位セル体積および微結晶サイズは膜厚の増加とともに向上することを明らかにした。異なる結晶学的方向に沿って薄膜のYoung率(E)とPoisson比(ν)をX線弾性定数を用いて計算した。膜のYoung率は,スパッタ膜は異方性であることを示唆する結晶学的方向依存性を示した。スパッタ膜の誘電率εと誘電正接tanδは,1MHzの周波数でそれぞれ29 85と0.0028 0.0014の範囲にあった。これらの値は,純粋なアルゴン雰囲気で堆積した膜に対して最良である。膜の結晶性と均一な粒径の改善は,スパッタ膜の誘電特性の変化を理解するためにパラメータとして用いた。5および10GHzで測定したポスト誘電共振器(SPDR)法分割を用いたとき,最良のマイクロ波誘電特性はε_=75 65とtanδ=0.014 0.032であった。得られた結果は,HApスパッタ膜は,調整可能なマイクロ波デバイスにおける光リミッティングと応用に有望であることを示唆した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 膜厚 ,  X線回折 ,  *マグネトロンスパッタリング ,  損失正接 ,  *ヒドロキシアパタイト ,  *誘電性 ,  微結晶 ,  多結晶 ,  Young率 ,  周波数 ,  薄膜 ,  誘電正接 ,  誘電率 ,  結晶度
準シソーラス用語： *マイクロ波誘電特性 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： HAp膜 ,  RFスパッタリング ,  XRD ,  非線形光学特性 ,  誘電特性

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (6件)： RFマグネトロンスパッタリング ,  堆積 ,  ヒドロキシアパタイト ,  光学 ,  マイクロ波誘電特性 ,  厚さ