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J-GLOBAL ID：201802219065654991   整理番号：18A1698710

自己スパッタ接合法を用いた常温によるSiO₂/Siウェハ直接接合

著者 (1件)： 内海淳 (三菱重工工作機械)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 79th  ページ： ROMBUNNO.19p-432-6  発行年： 2018年09月05日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ウエハ【IC】 ,  弾性表面波素子 ,  *接合 ,  プラズマ処理 ,  電子顕微鏡観察 ,  界面 ,  接合部 ,  *シリコンウエハ ,  *直接接合 ,  接合界面 ,  透過型電子顕微鏡法
準シソーラス用語： SAWデバイス ,  *常温接合 ,  TEM観察

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： 自己 ,  スパッタ ,  常温 ,  SiO2 ,  Si ,  ウェハ ,  直接接合