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J-GLOBAL ID：201802219961752616   整理番号：18A1999318

パルスレーザ蒸着により成長させたW-O被覆上のヘリウム負荷【JST・京大機械翻訳】

Helium load on W-O coatings grown by pulsed laser deposition

著者 (9件)： Mateus R. (Instituto de Plasmas e Fusao Nuclear, Instituto Superior Tecnico, Universidade de Lisboa, Av. Rovisco Pais, 1049-001 Lisboa, Portugal) ,  Dellasega D. (Dipartimento di Energia, Politecnico di Milano, via Ponzio 34/3, 20133 Milano, Italy) ,  Dellasega D. (IFP, CNR, via R. Cozzi 53, Milano 20125, Italy) ,  Passoni M. (Dipartimento di Energia, Politecnico di Milano, via Ponzio 34/3, 20133 Milano, Italy) ,  Passoni M. (IFP, CNR, via R. Cozzi 53, Milano 20125, Italy) ,  Siketic Z. (Ruder Boskovic Institute, P.O. Box 180, 10002 Zagreb, Croatia) ,  Bogdanovic Radovic I. (Ruder Boskovic Institute, P.O. Box 180, 10002 Zagreb, Croatia) ,  Hakola A. (VTT Technical Research Centre of Finland Ltd., Finland) ,  Alves E. (Instituto de Plasmas e Fusao Nuclear, Instituto Superior Tecnico, Universidade de Lisboa, Av. Rovisco Pais, 1049-001 Lisboa, Portugal)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 355  ページ： 215-221  発行年： 2018年 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 複雑な形態と顕著なHe含有量を持つW-O堆積物はHe放電に曝されたプラズマ対向成分の表面に成長する。再/共蒸着過程を模倣するために,W-O被覆をパルスレーザ蒸着(PLD)により成長させたW膜上にHe+イオンを注入することによりHeを負荷した。加圧ArまたはHeバックグラウンド雰囲気のような適切なPLD実験パラメータの使用は,大気中への曝露下での異なる量のOの収集を後に強化する多孔質またはコンパクトなW構造の堆積を誘起する。150keV,100keVおよび50keVの入射He+イオンビームを用いた多重イオン注入ステージ後に,5×10~17イオン/cm2の全フルエンスをもつHe+イオンビームを,Rutherford後方散乱(RBS)により多孔質被覆中にかなりの量のHeを同定した。飛行時間弾性反跳検出(TOF-ERDA)測定は,注入Heの大部分が注入後5か月で多孔質被覆から既に放出され,一方,コンパクト層の場合,He含有量は異なる形態とナノ構造の結果としてより深い層で著しく,表面に向かって滑らかに減少することを示した。PLDとイオン注入を含む提案した方法は,核融合研究のための参照試料として使用できるHeによるW-O膜負荷の生成に適していると思われる。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 放電 ,  多孔質体 ,  ナノ構造 ,  多孔性 ,  Rutherford後方散乱 ,  プラズマ ,  同時蒸着 ,  弾性 ,  加圧 ,  アルゴン ,  イオン注入 ,  *被覆 ,  *ヘリウム ,  フルエンス ,  多重化 ,  *パルスレーザ蒸着

著者キーワード (4件)： PLD ,  Wコーティング ,  イオン注入 ,  ヘリウム負荷

分類 (2件)： 医用素材  (GA05040H) ,  金属材料へのセラミック被覆  (YC02050V)

タイトルに関連する用語 (3件)： パルスレーザ蒸着 ,  成長 ,  ヘリウム