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J-GLOBAL ID：201802220000816489   整理番号：18A0815089

異なる量のCrを含むNi(111)表面上のHとOの吸着と拡散【JST・京大機械翻訳】

Adsorption and diffusion of H and O on an Ni(111) surface containing different amounts of Cr

著者 (2件)： Das Nishith Kumar (Frontier Research Initiative, New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University, 6-6-10 Aoba Aramaki, Aoba-ku, Sendai 980-8579, Japan) ,  Shoji Tetsuo (Frontier Research Initiative, New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University, 6-6-10 Aoba Aramaki, Aoba-ku, Sendai 980-8579, Japan)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 445  ページ： 217-228  発行年： 2018年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 密度汎関数理論(DFT)を用いて,Ni(111)およびNiCr(111)表面上の原子状水素および酸素の吸着および拡散を計算した。計算結果は,HとOの吸着エネルギー(E_ad)が表面の被覆率を増加させると徐々に減少するが,速度はHに対して非常に遅いことを示した。格子間サイトにおけるhは表面の幾何学的構造を著しく改変し,その結果,金属-金属結合長は長くなった。高いH被覆率では,NiCr結合長は格子間Hにより著しく伸長し,Cr原子が優先的に外向きに移動することを示した。さらに,Hの活性化エネルギーはCrによって増加した。Crのドーピングは表面電子構造を修飾し,エネルギー障壁を増加させることができる。Oについては,E_adは表面の上のCr含有量の増加とともに増加した。最も高いエネルギーは,表面上に最も多くのCrを有する表面によって達成された。金属原子はNiまたはCrリッチ領域から可動性が低く,移動度は低濃度領域,特に高O被覆率で高い。Oの活性化エネルギーは,経路IIIに対して0.41eVであり,すなわち,NiCrブリッジ上では,元のNi(111)表面のそれより0.26eV小さい。Oの全体活性化エネルギーは,元のNi(111)表面と比較してNiCr(111)表面上で増加し,実験結果と一致した。本研究は,Hによって表面から離れたCr原子が表面上に陽イオン空孔をもたらすことを示唆した。このプロセスは非常に初期段階で表面酸化を加速できる。対照的に,Crは原子Oをトラップし,その表面拡散率を減少させ,Crリッチ領域における不動態膜の形成をもたらす。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： ドーピング ,  密度汎関数法 ,  金属結合 ,  活性化エネルギー ,  *クロム ,  表面拡散 ,  *ニッケル ,  吸着エネルギー ,  不動態皮膜 ,  酸素 ,  被覆率 ,  核間距離 ,  カチオン
準シソーラス用語： 表面酸化 ,  エネルギー障壁 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 酸化開始 ,  CR効果 ,  O Hマイグレーション ,  DFT

分類 (2件)： 吸着の電子論  (CB12042Y) ,  金属の表面構造  (BK15020P)

タイトルに関連する用語 (5件)： 量 ,  Cr ,  Ni ,  吸着 ,  拡散