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J-GLOBAL ID：201802220765450650   整理番号：18A1453966

非ホログラフィックKH2PO4結晶の薄い表面層成長特性【JST・京大機械翻訳】

Growth Habit of Thin Surface Layer of KH2PO4 Crystal with Incomplete Crystallographic Shape

著者 (4件)： Hu Zhitao (重慶大学動力工程学院,低品位能源利用技術及系統教育部重点実験室,重慶400030) ,  Li Mingwei (重慶大学動力工程学院,低品位能源利用技術及系統教育部重点実験室,重慶400030) ,  Yin Huawei (重慶大学動力工程学院,低品位能源利用技術及系統教育部重点実験室,重慶400030) ,  Xiao Linhai (重慶大学動力工程学院,低品位能源利用技術及系統教育部重点実験室,重慶400030)
資料名： Cailiao Daobao  (Cailiao Daobao)
巻： 32  号： 2  ページ： 272-277  発行年： 2018年 
JST資料番号： C2126A  ISSN： 1005-023X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 非ホロノミック状態のKH2PO4(KDP)結晶が過飽和溶液中に薄い表面層の成長形式でその結晶学形態を回復する過程を観察した。結晶形態回復の「最小多面体原理」を提案した。自由成長系において,非ホロノミック状態のKDP結晶に対して,薄い表面層の形でその結晶学の完全な形状を回復させたとき,薄い表面層は対応する特異面の方向を成長させる。結晶形態の最終回復は各結晶学露出面に囲まれた体積が最小の凸多面体である。PBC理論を用いて、非結晶学露出面上の成長素の付着状況を分析し、円錐頂部の薄い表面層の逆垂成長の原因を述べた。結果は,薄い表面層の形成が,結晶の非ホロノミックな形態および不均一水動力学の条件に関連することを示した。円柱面凹角と非正常稜辺及びZ切片の正常な角は、いずれも薄い表面層を誘発でき、しかも薄い表面層の成長は、その特異面の正常な結晶学の結晶角に終止する。Data from Wanfang. Translated by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 円柱 ,  付着 ,  結晶学 ,  特異面 ,  リン酸二水素カリウム ,  円錐 ,  *表層 ,  *結晶 ,  凹形 ,  *ホログラフィー ,  結晶形態 ,  オーキシン ,  動水力学 ,  非晶質
準シソーラス用語： 過飽和溶液 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： thin surface layer ,  crystallographic shape ,  KH2PO4 ,  crystal ,  growth habit

分類 (2件)： 化学工業一般  (YA01010Q) ,  結晶学一般  (BK05010Z)

タイトルに関連する用語 (4件)： ホログラフィック ,  結晶 ,  表面層 ,  成長特性