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J-GLOBAL ID:201802221158582317   整理番号:18A0736709

TFT作製プロセスによりa-IGZO-TFTに導入される水素関連欠陥の光誘起電流過渡分光法による評価

Photo-Induced Transient Spectroscopy Study on Hydrogen-Related Trap States in a-IGZO-TFTs induced during TFT Fabrication Process
著者 (5件):
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巻: 42  号: 8(IDY2018 15-22)  ページ: 21-26  発行年: 2018年03月01日 
JST資料番号: S0209A  ISSN: 1342-6893  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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In-Ga-Zn-O(IGZO)に代表されるアモルファス酸化物半導体は,高い電子移動度が比較的容易に得られるため次世代高精度FPD用材料として期待されている。しかしながら,各種ストレスに対する不安定性などの問題から,実際に量産に成功したメーカーは,現時点では一部に留まっている。TFT動作時のストレス不安定性は,TFTチャネル領域の電子状態の変化に起因する。本研究では,TFTのチャネル部の電子状態を明確化するために,光誘起電流過渡分光法(Photo-induced transient Spectroscopy:PITS)を適用し,TFT作製プロセス中に導入される水素関連欠陥の評価を行った。(著者抄録)
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分類 (2件):
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光導電素子  ,  入出力装置 

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