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J-GLOBAL ID：201802221167065887   整理番号：18A1358014

可視光照射下での新規β-CoOH/g-C_3N_4複合体上のMoとフェノールの光触媒分解【JST・京大機械翻訳】

Photocatalytic degradation of MO and phenol over novel β-CoOOH/g-C₃N₄ composite under visible light irradiation

著者 (3件)： Shi Lang (College of Chemistry and Chemical Engineering, Central South University, Changsha, Hunan 410083, PR China) ,  Zhao Kuangmin (College of Chemistry and Chemical Engineering, Central South University, Changsha, Hunan 410083, PR China) ,  Liu Suqin (College of Chemistry and Chemical Engineering, Central South University, Changsha, Hunan 410083, PR China)
資料名： Materials Letters  (Materials Letters)
巻： 228  ページ： 121-124  発行年： 2018年 
JST資料番号： E0935A  ISSN： 0167-577X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 直接Zスキームβ-Co00H/g-C_3N_4光触媒を合理的に設計した。調製したままのβ-Co00H/g-C_3N_4触媒は,g-C_3N_4と比較して,メチルオレンジ(MO)とフェノールの分解に対して著しく向上した光触媒性能を示した。効率的な電子-正孔対分離は,改良された触媒性能の原因であった。さらに,O_2-およびOHラジカルはMOの分解に対する重要な化学種であることが分かったが,正孔(h+)およびOHラジカルはフェノールの分解に対する最も重要な化学種であり,活性種トラッピング実験およびESR技術測定によって証明された。本研究は,独特の光電特性を有するg-C_3N_4ベース光触媒の慎重な設計への新しい洞察を提供した。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 正孔 ,  *モリブデン ,  *触媒 ,  触媒活性 ,  *複合体 ,  ヒドロキシルラジカル ,  電子正孔対 ,  化学種 ,  *光触媒 ,  フェノール類
準シソーラス用語： トラッピング ,  *光触媒分解 ,  *可視光照射 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 半導体 ,  光触媒 ,  ナノコンポジット ,  g-C3N4

分類 (2件)： 光化学一般  (CB08010U) ,  炭素とその化合物  (YB02060D)

物質索引 (1件)： フェノール

タイトルに関連する用語 (5件)： 可視光照射 ,  複合体 ,  Mo ,  フェノール ,  光触媒分解