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J-GLOBAL ID：201802221308125295   整理番号：18A1374621

アクティブスクリーン高周波プラズマを用いた窒化処理法の開発

Development of Plasma Nitriding in RF Active Screen Plasma

著者 (1件)： 宮本潤示 (大同大 工)
資料名： 大同大学紀要  (Bulletin of Daido University)
巻： 53  ページ： 31-35  発行年： 2018年03月 
JST資料番号： Z0741A  ISSN： 2185-2375  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 活性スクリーンプラズマ窒化は,材料の芯の特性を維持しながらより高い表面硬度を達成する種々のエンジニアリング材料を処理するための特異な将来の方法である。しかしながら,活性スクリーンプラズマ窒化法は導電特性を有する電極を必要とする。本研究においては,RFプラズマ窒化システムの開発を実施した。さらに,RFパワーを用いた活性スクリーンプラズマ窒化を達成するための装置の特性を調べた。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *イオン窒化 ,  *プラズマ ,  硬度 ,  工具鋼 ,  電極材料 ,  バイアス
準シソーラス用語： *RFプラズマ ,  セルフバイアス ,  表面硬度

分類 (1件)： 表面硬化熱処理  (WC03030E)

タイトルに関連する用語 (4件)： スクリーン ,  高周波プラズマ ,  窒化処理 ,  開発