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J-GLOBAL ID：201802222510600557   整理番号：18A0988337

ガラス材料のレーザマーキング用LIBWEによるマイクロピットの作製

Fabrication of Micropits by LIBWE for Laser Marking of Glass Materials

著者 (3件)： SATO Tadatake (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN) ,  NARAZAKI Aiko (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN) ,  NIINO Hiroyuki (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
資料名： Journal of Laser Micro/Nanoengineering (Web)  (Journal of Laser Micro/Nanoengineering (Web))
巻： 12  号： 3  ページ： 248-253 (WEB ONLY)  発行年： 2017年12月 
JST資料番号： U0377A  ISSN： 1880-0688  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ガラス材料のレーザマーキングにおいて高速ビーム走査LIBWEによるシリカガラス上のマイクロピット配列構造の作製を用いた。DPSSレーザ(λ=355nm,τ~15ns)およびピレンで飽和したトルエンを用いたLIBWEにより微細構造を作製した。ビーム走査速度が低いとき,幅30μmのマイクロトレンチが形成される。一方,マイクロピット配列構造は高速ビーム走査条件下で作製できる。単一走査により得られたアレイ構造の各マイクロピットを単一レーザパルス照射により作製した。0.35μmまでの最大深さを有するマイクロピットを,単一レーザパルス照射によって作製することができた。マイクロピットアレイ構造を作製するためには,キャビテーションが高いパルス繰返し速度でエッチングを制限するので,パルス繰返し速度は重要なパラメータになる。1回および2回のパルス照射で観察される過渡圧力信号の測定により,エッチングに及ぼすキャビテーションの影響を調べた。作製したマイクロピット配列構造はガラス材料の高速レーザマーキングに利用できる。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *マーキング ,  アレイ ,  エッチング ,  キャビテーション ,  二酸化ケイ素 ,  *石英ガラス ,  パラメータ ,  レーザパルス ,  *レーザ加工 ,  微細構造 ,  トレンチカット【加工】 ,  パターン形成 ,  パルスレーザ照射 ,  光走査
準シソーラス用語： *レーザマーキング ,  繰返し速度 ,  走査速度

分類 (2件)： レーザの応用  (BD04100V) ,  特殊加工  (QC04000Y)

引用文献 (35件)：

• Y. M. Noor, S. C. Tam, L. E. N. Lim and A. Jana: J. Mater. Process. Technol., 42, (1994) 95.
• J. Qi, K. L. Wang and Y. M. Zhu: J. Mater. Process. Technol., 139, (2003) 273.
• X.-S. Li, W.-P. He, L. Lei, J. Wang, G.-F. Guo, T.-Y. Zhang and T. Yue: Opt. Laser Technol., 77, (2016) 31.
• V. Veiko, G. Odintsova, E. Ageev, Y. Karlagina, A. Loginov, A. Skuratova and E. Gorbunova: Opt. Exp., 22, (2014) 24342.
• B. Dusser, Z. Sagan, H. Soder, N. Faure, J. P. Co-lombier, M. Jourlin and E. Audouard: Opt. Exp., 18, (2010) 2013.

タイトルに関連する用語 (4件)： ガラス材料 ,  レーザマーキング ,  ピット ,  作製